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龙图腾网获悉长安大学申请的专利一种光催化剂、制备方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116726986B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310603643.4，技术领域涉及：B01J31/06；该发明授权一种光催化剂、制备方法及应用是由李宇亮;徐晓彤;徐帅;卢奕彤设计研发完成，并于2023-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光催化剂、制备方法及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光催化剂、制备方法及应用，光催化剂，CPDI3,4,9,10‑苝四羧酸二酐与笼状基团POSS‑NH2氨基丙基庚基‑笼形聚倍半硅氧烷复合形成改性催化剂POSS‑PDI；所述的改性催化剂POSS‑PDI中CPDI与POSS‑NH2的质量比为1:3.29；所述的g‑CNP‑PDIII型光催化剂中g‑CN介孔石墨氮化碳纳米片与POSS‑PDI的质量比为3wt％。本发明制备方法简单，通过构建异质结，制备的II型光催化剂具有很好的催化活性和稳定性。在光照和多个反应条件的协同作用下，对乙腈中木质素模型物β‑O‑4的解聚可达到99％，C‑C键裂解选择性达到96％。

本发明授权一种光催化剂、制备方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种光催化剂，其特征在于，为g-CN与改性光催化剂POSS-PDI复合形成的II型光催化剂； 所述的改性光催化剂POSS-PDI为CPDI光催化剂接入笼状基团POSS-NH2，CPDI光催化剂与笼状基团POSS-NH2的质量比为1:3.29；所述的II型光催化剂中g-CN与改性光催化剂POSS-PDI的质量比为3wt%； 3,4,9,10-苝四羧酸二酐、POSS-NH2和咪唑通过咪唑化反应制备的改性光催化剂POSS-PDI；具体包括：2.0g3,4,9,10-苝四羧酸二酐、6.58gPOSS-NH2和20g咪唑混合，N2吹扫15min，添加4mL邻二氯苯，125℃剧烈搅拌5h；混合物冷却至90℃，加入60mL甲醇，过滤分离，并使用体积比为201的CHCl3丙酮作为洗脱剂，硅胶柱层析进一步纯化即得； 通过两步化学剥离法制备得到g-CN，具体包括：三聚氰胺粉末以2.3℃min加热至550℃，保持4h,得到g-CN块；g-CN块粉末以5℃min加热至520℃，保持5h，即得； 再将g-CN与改性光催化剂POSS-PDI于混合溶剂中静置，形成II型光催化剂。

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