中国机械总院集团海西(福建)分院有限公司;中机铸材科技(福建)有限公司李英朋获国家专利权
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龙图腾网获悉中国机械总院集团海西(福建)分院有限公司;中机铸材科技(福建)有限公司申请的专利一种BAK-4光学棱镜精抛用高分散性抛光液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118064060B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410190486.3，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种BAK-4光学棱镜精抛用高分散性抛光液及其制备方法是由李英朋;占稳;刘文志;林鸿榕设计研发完成，并于2024-02-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种BAK-4光学棱镜精抛用高分散性抛光液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种BAK‑4光学棱镜精抛用高分散性抛光液及其制备方法，通过严格控制磨粒与支状聚乙烯亚胺固液比、反应温度和反应时间，将支状聚乙烯亚胺修饰在磨粒表面，并向抛光液中引入少量特殊分子段结构的聚丙烯酸‑聚氧化乙烯，实现了抛光液中磨粒粒径分布集中和团聚大颗粒的消除，从而确保不会划伤抛光件表面，应用前景良好。
本发明授权一种BAK-4光学棱镜精抛用高分散性抛光液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种BAK-4光学棱镜精抛用高分散性抛光液，其特征在于，该抛光液组成包括：主体改性分散磨粒、辅助改性分散磨粒、0.1~0.5wt%聚丙烯酸-聚氧化乙烯、pH调节剂、0.1~0.8wt%有机硅消泡剂和余量超纯水； 所述主体改性分散磨粒为粒径梯度化的类球形聚乙烯亚胺改性CeO2，粒径范围200~500nm，按质量百分数计，含量占抛光液总质量的3.0~5.0%，辅助改性分散磨粒为类球形聚乙烯亚胺改性ZrO2、类球形聚乙烯亚胺改性SiC的其中一种或两种，粒径范围40~80nm，含量为主体改性分散磨粒质量的8~15%； 所述主体改性分散磨粒或辅助改性分散磨粒的制备方法，包括：向装有相应粒径初始磨粒的反应容器中加入一定量的乙二醇与二甲基甲酰胺混合分散溶液，并进行超声搅拌分散5~30min，期间控制容器内温度不超过30℃，之后加入一定量的支状聚乙烯亚胺，设置温度为50~90℃，并在氮气气氛下加热回流8~15h进行接枝反应，结束后停止加热并持续搅拌至室温，最后将溶液倒入离心管，在6000rpm下离心10min，倒出上清液，沉淀物通过无水乙醇和硝酸洗涤3次后用去离子水洗涤至中性，在70℃烘箱中干燥10h后得到主体改性分散磨粒或辅助改性分散磨粒。
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