北京北方华创微电子装备有限公司杨帆获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118854231B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310483556.X，技术领域涉及：C23C14/34；该发明授权物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法是由杨帆设计研发完成，并于2023-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法和装置、计算机可读介质，包括工艺腔室、阻抗监测装置和控制装置，其中，阻抗监测装置分别与屏蔽组件和控制装置电连接，用于检测屏蔽组件的对地阻抗信息，并向控制装置发送；控制装置用于根据对地阻抗信息，获得屏蔽组件的表面状态，并根据屏蔽组件的表面状态，判断下一沉积工艺是执行化合物膜层沉积工艺，还是执行金属膜层沉积工艺。本发明的方案可以更准确地确定屏蔽组件的表面状态，从而可以在避免屏蔽组件上的粒子脱落以及打火现象的基础上，降低使用成本，提高机台的使用效率。
本发明授权物理气相沉积设备、物理气相沉积工艺的控制方法在权利要求书中公布了：1.一种物理气相沉积设备，包括工艺腔室，所述工艺腔室中还设置有屏蔽组件，其特征在于，还包括阻抗监测装置和控制装置，其中， 所述阻抗监测装置分别与所述屏蔽组件和所述控制装置电连接，用于检测所述屏蔽组件的对地阻抗信息，并向所述控制装置发送； 所述控制装置用于根据所述对地阻抗信息，获得所述屏蔽组件的表面状态，并根据所述屏蔽组件的表面状态，判断下一沉积工艺是执行化合物膜层沉积工艺，还是执行金属膜层沉积工艺； 所述屏蔽组件包括内衬，所述内衬环绕设置于所述工艺腔室的侧壁内侧； 所述阻抗监测装置与所述内衬的外壁面电连接。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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