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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利传片调度方法及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118969670B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411026237.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权传片调度方法及半导体工艺设备是由吉肖宇;林源为设计研发完成，并于2024-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本传片调度方法及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种传片调度方法及半导体工艺设备。其中，该方法包括：获取待调度的晶圆盒对应的工艺腔室中，两个作业位置的可作业状态；若两个作业位置均为可作业的第一类型工艺腔室的数量为P个，P大于零，则按顺序依次遍历P个腔室，对于每个腔室，控制机械手传输未作业的两片晶圆进行作业；P个腔室遍历完成后，若只有一个作业位置为可作业的第二类型工艺腔室的数量为S个，S大于零，则按顺序依次遍历S个腔室，对于每个腔室，控制机械手传输未作业的单片晶圆进行作业；S个腔室遍历完成后，根据晶圆盒中未作业的晶圆的数量确定目标工艺腔室，等待目标工艺腔室完成作业以执行相应的传输动作。本申请提高了传片效率和设备产能。

本发明授权传片调度方法及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种传片调度方法，适用于具有至少一个工艺腔室的半导体工艺设备，所述工艺腔室具有两个作业位置，其特征在于，包括： 获取待调度的晶圆盒对应的所述工艺腔室中，所述两个作业位置的可作业状态； 若第一类型工艺腔室的数量为P个，所述P大于零，则按顺序依次遍历所述P个第一类型工艺腔室，对于每个所述第一类型工艺腔室，控制机械手传输所述晶圆盒中未作业的两片晶圆进行作业；所述第一类型工艺腔室是所述两个作业位置的可作业状态均为可作业的工艺腔室； 所述P个第一类型工艺腔室遍历完成后，若第二类型工艺腔室的数量为S个，所述S大于零，则按顺序依次遍历所述S个第二类型工艺腔室，对于每个所述第二类型工艺腔室，控制所述机械手传输未作业的单片晶圆进行作业；所述第二类型工艺腔室是只有一个所述作业位置的可作业状态为可作业的工艺腔室； 所述S个第二类型工艺腔室遍历完成后，根据所述晶圆盒中未作业的晶圆的数量，确定目标工艺腔室，等待所述目标工艺腔室完成作业以执行相应的传输动作。

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