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龙图腾网获悉南京理工大学申请的专利高光谱平坦度的色散光纤光栅制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119291840B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411530557.6，技术领域涉及：G02B6/02；该发明授权高光谱平坦度的色散光纤光栅制备方法是由沈华;郭洋宁;矫岢蓉;朱子豪设计研发完成，并于2024-10-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本高光谱平坦度的色散光纤光栅制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高光谱平坦度的色散光纤光栅制备方法，针对色散光纤光栅刻写过程中两端折射率突变导致其谐振峰两侧出现较强的旁瓣以及在使用过程中产生的短波损耗，提出了一种高光谱平坦度色散光纤光栅制备方法。对紫外激光扩束与整形，以达到匀化高斯光斑目的，最终得到理想光场，从而降低色散光纤光栅两端折射率突变程度；其次通过精密控制步进电机的扫描速度改变色散光纤光栅各位置曝光时间，从而控制光纤光栅不同位置折射率调制深度以消除两端折射率突变并且补偿因短波损耗现象造成的短波长处反射率低于长波长反射率的问题，最终大幅提升色散光纤光栅的光谱平坦度。相比现有方法，本发明提出的方法具有成本低、灵活性强、稳定性高等优点。

本发明授权高光谱平坦度的色散光纤光栅制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高光谱平坦度的色散光纤光栅制备方法，其特征在于，步骤如下： 步骤1、利用匀化紫外光场控制技术对紫外激光进行扩束与整形，将其原本密集的以高斯形式分布的能量分散开，以达到匀化高斯光斑的目的，最终得到理想的刻写光场；从而在紫外刻写扫描过程中降低光纤光栅两端的折射率突变程度，提升色散光纤光栅的边模抑制比； 步骤2、利用高边模抑制比切趾技术，通过控制步进电机的扫描速度Va改变光纤光栅各位置的曝光时间，从而控制光纤光栅不同位置的折射率调制深度以消除其两端的折射率突变，得到边模抑制比大于等于20dB的切趾色散光纤光栅； 步骤3、利用渐进式扫描刻写技术，叠加渐进式扫描速度Vb，使紫外激光在短波长位置处的扫描速度为使紫外激光在长波长位置处的扫描速度为以提高色散光纤光栅在短波长位置处的反射率，降低色散光纤光栅在长波长处的反射率，进而补偿因短波损耗现象造成的色散光纤光栅短波长处反射率低于长波长处的难题，最终有效抑制了短波损耗现象，得到光谱平坦度小于等于2％、边模抑制比大于等于20dB的色散光纤光栅。

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