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龙图腾网获悉兰州空间技术物理研究所申请的专利一种分压力质谱计和正压漏孔综合校准装置与方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119469546B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411484312.4，技术领域涉及：G01L27/00；该发明授权一种分压力质谱计和正压漏孔综合校准装置与方法是由成永军;张瑞芳;孙雯君;赵澜;董猛;王星辉;马娟;李棉峰设计研发完成，并于2024-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种分压力质谱计和正压漏孔综合校准装置与方法在说明书摘要公布了：本公开提供了一种真空分压力质谱计和正压漏孔综合校准装置和方法。该装置增加了进样毛细管，当针对大漏率的正压漏孔进行校准时，如果真空分压力质谱计因为压力太大无法正常启动，开启进样毛细管分支，从而使得进入质谱分析室的气体压力衰减至10‑4Pa量级，保证真空分压力质谱计的正常工作。同时，结合真空分压力质谱计上所设置的磁悬浮转子真空计，采用本发明提供的校准方案，能够在对正压漏孔进行校准的基础上，用同一套设备实现真空条件下真空分压力质谱计的校准，满足载人航天领域的正压环境对气体成分分析与正压检漏的综合校准的需求。

本发明授权一种分压力质谱计和正压漏孔综合校准装置与方法在权利要求书中公布了：1.一种分压力质谱计和正压漏孔综合校准装置，其特征在于，包括：供气系统19、被测的正压漏孔1、配样室3、气体膨胀室7、进样毛细管10、限流小孔11、质谱分析室12、真空分压力质谱计13、抽气系统14； 供气系统19通过第八真空阀门20连接正压漏孔1的入口，正压漏孔1的出口通过第一真空阀门2连接配样室3入口，第八真空阀门20进一步通过第七真空阀门18连接配样室3入口；配样室3用于配置正压漏孔与真空分压力质谱计校准所需要的标准气体以及正压漏孔校准时的气体累积；配样室3出口通过第二真空阀门5连接气体膨胀室7入口，配样室3中的气体采用静态膨胀的方式膨胀至气体膨胀室7；气体膨胀室7出口连接第三真空阀门8，第三真空阀门8一方面直接连接限流小孔11，另一方面通过串联的第四真空阀门9和进样毛细管9连接限流小孔11；限流小孔11另一端接入质谱分析室12；根据正压漏孔1漏率大小，采用限流小孔11单独工作或限流小孔11与进样毛细管9共同工作的方式，将气体压力降至真空分压力质谱计13能够接受的量级，再进入质谱分析室12；抽气系统14通过第五真空阀门15接入质谱分析室12； 配样室3和气体膨胀室7分别连接电容薄膜真空计4,6，用于进行室内的气体压力测量；质谱分析室12连接真空分压力质谱计13和磁悬浮转子真空计16，分别用于测量质谱分析室12中的气体分压力值和真空度。

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