东莞金太阳研磨股份有限公司方红获国家专利权
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龙图腾网获悉东莞金太阳研磨股份有限公司申请的专利新型堆积磨料打磨抛光材料及其制备工艺获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119635544B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510041736.1,技术领域涉及:B24D18/00;该发明授权新型堆积磨料打磨抛光材料及其制备工艺是由方红;孙培;钟宝玲设计研发完成,并于2025-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本新型堆积磨料打磨抛光材料及其制备工艺在说明书摘要公布了:本发明涉及聚合磨料领域,具体涉及新型堆积磨料打磨抛光材料及其制备工艺。本方案通过以下步骤制备:步骤1将基材浸没至胶粘剂中,浸润后在基材的一面制成背底层,获得预处理基材;步骤2底胶涂覆:在预处理基材的基材另一面刮涂底胶,获得涂胶基材;步骤3植砂:在涂胶基材的底胶侧均匀植砂,植砂颗粒为四棱台形状,随后涂布一层复胶,干燥后获得半成品;步骤4固化制成:将半成品加热固化6h—24h,得新型堆积磨料打磨抛光材料。本方案制备的新型堆积磨料打磨抛光材料具有寿命长、散热性能好,粗糙度稳定的特点。
本发明授权新型堆积磨料打磨抛光材料及其制备工艺在权利要求书中公布了:1.一种新型堆积磨料打磨抛光材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 步骤1浸渍背涂:将基材浸没至胶粘剂中,浸润后在130℃-180℃条件下干燥,干燥后在基材的一面用背底料浆刮涂30μm-100μm的背底层,获得预处理基材;所述胶粘剂为聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂或丙烯酸树脂中的一种或者几种; 步骤2底胶涂覆:在预处理基材远离背底层的一面刮涂厚度为40μm-150μm的底胶,在70℃-140℃条件下干燥70min—150min,获得涂胶基材; 步骤3植砂:在涂胶基材的底胶侧均匀植砂,植砂颗粒为四棱台形状,大小为0.6mm—2.2mm,按每平方米400g-1000g植砂分布,随后涂布一层复胶,复胶涂布量为550gm2-1100gm2,在70℃-140℃条件下干燥70min—150min,获得半成品; 步骤4固化制成:将半成品在70℃-160℃条件下加热固化6h—24h,获得新型堆积磨料打磨抛光材料; 所述基材为重磅纸,网格布或薄膜基材中的一种; 步骤3中,所述植砂颗粒的制备方法包括以下步骤: 步骤a:将磨料粉末气旋,获得平均粒度小于10μm的备用粉末; 步骤b:按重量份计,将1份备用粉末加入1份—2份水中,加入0.01份—0.03份硅烷偶联剂,通过砂磨机混磨30min—60min后脱水,烘干,随后加入到0.3份—0.5份粘结剂中,均质化后获得颗粒料原浆; 步骤c:将颗粒料原浆注入模具,在真空条件下处理3min—5min,补浆后在70℃-160℃条件下加热固化3—5h,脱模获得植砂颗粒。
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