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龙图腾网获悉中国人民解放军国防科技大学申请的专利用于X射线平面镜的面形误差自校准拼接检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119830522B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411728248.X，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权用于X射线平面镜的面形误差自校准拼接检测方法及系统是由薛帅;戴一帆;彭小强;胡皓;杜春阳设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于X射线平面镜的面形误差自校准拼接检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种用于X射线平面镜的面形误差自校准拼接检测方法及系统，本发明包括基于环境扰动误差和其他固定设置、将附加误差源取值为零，开展测量参数的多因素多水平自校准拼接测量仿真以获得优化后的测量参数及误差；基于优化后的测量参数对各附加误差源开展单因素多水平的自校准拼接测量仿真以获得各项附加误差源引起的误差；计算各附加误差源所需的误差控制水平；根据优化后的测量参数和各附加误差源的误差控制水平开展自校准拼接测量仿真，若仿真得到的测量误差满足精度要求则退出；否则选择更严格的测量参数和附加误差源控制水平并继续迭代直到精度满足要求。本发明旨在确定X射线平面镜主要误差源所需的误差控制水平和主要测试参数。

本发明授权用于X射线平面镜的面形误差自校准拼接检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于X射线平面镜的面形误差自校准拼接检测方法，其特征在于，包括： S1，获取X射线平面镜的测量要求，包括测量口径和精度要求；确定面形误差自校准拼接检测的固定设置、测量参数以及附加误差源，所述固定设置是指可能会影响测试精度、但由于方法的目标约束需要被限制为固定值的参数，所述测量参数会影响测试精度，并且其数值可以在后续的误差分析仿真中变化的参数；所述附加误差源是指来自于除环境干扰外能影响测试精度的其他误差源，并且其控制水平可以在后续的误差分析仿真中变化； S2，基于环境扰动误差和固定设置、将附加误差源取值为零，针对测量参数基于所述测量口径对应的X射线平面镜开展多因素多水平自校准拼接测量仿真以获得优化后的测量参数以及对应的误差； S3，在优化后的测量参数的基础上，对各项附加误差源基于所述测量口径对应的X射线平面镜开展单因素多水平的自校准拼接测量仿真以获得各项附加误差源引起的误差，通过计算综合误差得到各附加误差源所需的误差控制水平； S4，根据所选的优化测量参数和各附加误差源的误差控制水平开展自校准拼接测量仿真得到测量误差，若测量误差满足精度要求，则结束并退出；否则选择更严格的测量参数和附加误差源控制水平并跳转步骤S2继续迭代直到精度满足要求。

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