湘潭大学赵镍获国家专利权
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龙图腾网获悉湘潭大学申请的专利一种可控氧化高性能纳米金属多层膜及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119956299B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510050961.1，技术领域涉及：C23C14/32；该发明授权一种可控氧化高性能纳米金属多层膜及其制作方法是由赵镍;徐雄;齐福刚;欧阳晓平设计研发完成，并于2025-01-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种可控氧化高性能纳米金属多层膜及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明实施例提供了一种可控氧化高性能纳米金属多层膜的制备方法，以不锈钢为基底，以钇靶材作为电弧源，基于钇弧在所述基底上进行钇沉积，得到包含氧化钇和钇的过渡层，其中，所述过渡层的厚度为100‑200nm，所述过渡层中氧化钇含量范围为7％‑12％；基于钇弧在所述过渡层上进行钇沉积，得到钇层；以铌靶材作为电弧源，基于铌弧在所述钇层上进行铌沉积，得到铌层；以一个所述钇层和铌层为一个周期作为循环层，重复N个周期，得到包含过渡层和N个循环层的可控氧化高性能纳米金属多层膜，其中所述10≤N≤50；如此，得到了与基底结合力好，晶粒大小均匀且具有大量能够增强体系稳定性的柱状晶存在且在高温下可控氧化增强热力学稳定性和力学性能的纳米金属多层膜。
本发明授权一种可控氧化高性能纳米金属多层膜及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种可控氧化高性能纳米金属多层膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括： 以不锈钢为基底，以钇靶材作为电弧源，基于钇弧在所述基底上进行钇沉积，得到包含氧化钇和钇的过渡层，其中，所述过渡层的厚度为100-200nm，所述过渡层中氧化钇含量范围为7％-12％； 基于钇弧在所述过渡层上进行钇沉积，得到钇层； 以铌靶材作为电弧源，基于铌弧在所述钇层上进行铌沉积，得到铌层； 以一个所述钇层和铌层为一个周期作为循环层，重复N个周期，得到包含过渡层和N个循环层的可控氧化高性能纳米金属多层膜，其中所述10≤N≤50。
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