北京北方华创微电子装备有限公司杨依龙获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利喷头、半导体工艺设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223539566U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-11发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422866350.8，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型喷头、半导体工艺设备是由杨依龙;罗建恒;佘清;赵康宁;吕鑫;朱超;王磊设计研发完成，并于2024-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷头、半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种喷头和半导体工艺设备，喷头包括沿高度方向依次层叠设置的第一匀气件、第二匀气件和喷洒件，第一匀气件的上侧形成有第一匀气槽，第一匀气槽的底部形成有多个第一匀气孔，且多个第一匀气孔位于第一匀气槽的边缘区域，第一匀气槽通过多个第一匀气孔与第二匀气件连通，第二匀气件上形成有多个第二匀气孔，第二匀气孔与喷洒件连通。在本实用新型中，第一匀气槽仅在边缘区域通过第一匀气孔与第二匀气件中的匀气腔连通，从而在气体由第一匀气件的第一匀气槽流动至匀气腔时能够充分向四周发散流动，进而保证气体最终通过喷洒件喷出的均匀性，进而保证气体的离化率。
本实用新型喷头、半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种喷头，用于半导体工艺设备，其特征在于，所述喷头包括沿高度方向依次层叠设置的第一匀气件、第二匀气件和喷洒件，所述第一匀气件的上侧形成有第一匀气槽，所述第一匀气槽的底部形成有多个第一匀气孔，且多个所述第一匀气孔位于所述第一匀气槽的边缘区域，所述第一匀气槽通过多个所述第一匀气孔与所述第二匀气件连通，所述第二匀气件上形成有多个第二匀气孔，所述第二匀气孔与所述喷洒件连通。
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