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龙图腾网获悉艾迪奇股份公司申请的专利用于通过平行干涉测量确定用于处理或测量物体的组件中的光学系统的元件的位置以及所述物体相对于所述组件的位置的方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115038931B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080095244.6，技术领域涉及：G01B9/0209；该发明授权用于通过平行干涉测量确定用于处理或测量物体的组件中的光学系统的元件的位置以及所述物体相对于所述组件的位置的方法和系统是由西蒙妮·唐纳德洛;芭芭拉·普雷维塔利;丹尼尔·科伦坡设计研发完成，并于2020-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于通过平行干涉测量确定用于处理或测量物体的组件中的光学系统的元件的位置以及所述物体相对于所述组件的位置的方法和系统在说明书摘要公布了：描述了用于确定组件的光学系统的元件的相对位置的方法和系统，以及用于确定处理工具或测量仪器与其外部的物体之间的分离距离的方法和系统；该组件用于沿着与系统相关联的预定测量线处理或测量物体。这些涉及生成低相干光学辐射的测量光束和参考光束，其中，测量光束和参考光束交替地或组合地包括主光束和多路复用附加光束。被引导朝向光学系统的元件或朝向物体并在物体背向反射的测量光束在干涉测量光学传感器装置的公共入射区域中被重叠在参考光束上。在其上检测主干涉条纹图案和附加干涉条纹图案的位置或频率，并且根据这些分别确定a光学系统的元件的位置或处理工具或测量仪器与其外部的物体之间的分离距离与b标称预定位置或标称分离距离之间的差。

本发明授权用于通过平行干涉测量确定用于处理或测量物体的组件中的光学系统的元件的位置以及所述物体相对于所述组件的位置的方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种用于确定组件的光学系统的元件的相对位置的方法，所述组件用于沿着与所述系统相关联的预定测量线处理或测量物体，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 生成低相干光学辐射的测量光束，将所述测量光束沿着所述测量线朝向所述元件引导，并且将由所述元件的背向反射表面反射或漫射的所述测量光束朝向光学干涉测量传感器装置引导，所述测量光束以至少部分背向反射的方式撞击在所述背向反射表面上；其中，所述测量光束在测量光学路径上从相应的源行进至所述光学干涉测量传感器装置，所述测量光学路径包括：在所述源与所述元件的所述背向反射表面之间的第一部分、和在所述元件的所述背向反射表面与所述干涉测量传感器装置之间的第二部分，当所述元件处于对应于所述系统的预定操作条件的预定标称位置中时，所述第一部分和所述第二部分具有相应的预定标称几何长度， 生成所述低相干光学辐射的相应参考光束，以及将所述参考光束朝向所述光学干涉测量传感器装置引导，其中，所述参考光束包括主参考光束和至少一个附加多路复用参考光束，所述主参考光束由主参考光学路径的行进产生，在所述元件的位置是所述预定标称位置的标称操作条件下所述主参考光学路径具有与所述测量光学路径的光学长度相等的光学长度；所述至少一个附加多路复用参考光束由附加参考光学路径的行进产生，在所述元件的位置是预定修改位置的操作条件下所述附加参考光学路径具有与所述主参考光学路径的几何长度不同的几何长度； 沿预定照明轴线，将所述测量光束和所述参考光束重叠在所述光学干涉测量传感器装置的至少公共入射区域上； 沿着所述照明轴线在所述公共入射区域上检测所述测量光束与所述主参考光束之间的主干涉条纹图案的位置以及所述测量光束与附加参考光束之间的附加干涉条纹图案的位置，其中，所述干涉条纹图案沿着所述照明轴线的延伸对应于所述低相干光学辐射的相干长度，所述附加干涉条纹图案具有i与所述主干涉条纹图案的光学辐射的包络的峰值或最大强度不同的光学辐射的包络的峰值或最大强度、或者ii从所述主干涉条纹图案的光学辐射的强度包络的固有位置偏移的光学辐射的强度包络的固有位置、或iii与所述主干涉条纹图案的空间频率不同的空间频率；或 在所述公共入射区域上检测条纹图案在波长光谱中的频率以及所述测量光束和所述附加参考光束之间的附加干涉条纹图案的频率，通过所述光束的波长色散从所述测量光束与所述主参考光束之间的主干涉获得所述条纹图案；所述条纹图案在频域中的延伸是由所述低相干光学辐射的相干长度确定的；所述附加干涉条纹图案i具有与所述主干涉条纹图案的频率不同的频率、或ii通过所述测量光束与附加参考光束在所述公共入射区域的与所述测量光束与主参考光束的重叠区不同的区上的重叠来确定；以及 分别根据所述干涉条纹图案或所述附加干涉条纹图案沿着所述入射区域的所述照明轴线的位置、或所述干涉条纹图案或所述附加干涉条纹图案在所述频域中的频率，确定所述测量光学路径与所述参考光学路径或所述附加参考光学路径之间的光学长度差，所述光学长度差分别指示a所述元件的当前位置与b所述元件沿着所述测量光束的轴线的所述预定标称位置或所述预定修改位置之间的差。

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