斯坦雷电气株式会社横林裕介获国家专利权
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龙图腾网获悉斯坦雷电气株式会社申请的专利光学装置以及光学装置的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115038997B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180012485.4，技术领域涉及：G02B5/20；该发明授权光学装置以及光学装置的制造方法是由横林裕介;川上康之;前村要介;山本英明;高岛启次郎;镰仓凉介设计研发完成，并于2021-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学装置以及光学装置的制造方法在说明书摘要公布了：光学装置具有：金属反射层，其实质上由金属材料形成；第1透光层，其配置在金属反射层上；光学多层反射膜，其配置在第1透光层上，是折射率不同的复数层层积而成的；以及波长转换层，其配置在光学多层反射膜上，包含能够吸收所入射的激发光并产生更低能量的荧光的荧光材料，基于激发光的照射能够产生激发光与荧光的混成光。
本发明授权光学装置以及光学装置的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光学装置，其具有： 金属反射层，其由金属材料形成； 第1透光层，其配置在所述金属反射层上，具有所述金属反射层侧的第1表面和位于所述金属反射层的相反侧的第2表面； 光学多层反射膜，其配置在所述第1透光层的所述第2表面上；以及 波长转换层，其配置在所述光学多层反射膜上，包含能够吸收所入射的激发光并产生更低能量的荧光的荧光材料，基于激发光的照射能够产生激发光与荧光的混成光， 所述第1透光层由具有1.5μm以上的厚度的透明基板构成， 所述光学多层反射膜为由具有相对低的折射率的低折射率层和具有相对高的折射率的高折射率层的复数层构成的层积结构，与所述第1透光层的所述第2表面相接地配置， 从所述波长转换层所包含的所述荧光材料放出的荧光经由所述光学多层反射膜和所述第1透光层而入射至所述金属反射层，被所述光学多层反射膜和所述金属反射层反射后从所述波长转换层表面射出到外部。
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