凌云光技术股份有限公司张福获国家专利权
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龙图腾网获悉凌云光技术股份有限公司申请的专利工业缺陷检测优化方法、装置、系统及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115082421B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210834488.2,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权工业缺陷检测优化方法、装置、系统及存储介质是由张福设计研发完成,并于2022-07-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本工业缺陷检测优化方法、装置、系统及存储介质在说明书摘要公布了:本申请涉及缺陷检测技术领域,具体而言,涉及一种工业缺陷检测优化方法、装置、系统及存储介质,一定程度上可以解决背景噪声干扰导致分割检测的结果中过检的数量较大的问题。基于联合通道和空间注意力机制,可实现优化分割网络模型的预测参数,进一步确定待检测图像的缺陷目标初始位置信息;基于待检测图像每个通道的特征金字塔,可实现确定每个通道的输出结果,其中,每个通道的输出结果是特征金字塔按层融合确定的;基于预测结果,预测结果包括缺陷目标的初始位置和每个通道的输出结果,可确定前景特征和背景特征,进一步将前景特征和背景特征通过并行的上下文检索模块,实现去除待检测图像的假阳缺陷目标。
本发明授权工业缺陷检测优化方法、装置、系统及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种工业缺陷检测优化方法,其特征在于,包括: 基于联合通道和空间注意力机制,优化分割网络模型的预测参数,以确定待检测图像的缺陷目标初始位置信息,其中,所述分割网络模型是由包含缺陷目标的待检测图像训练获得的; 基于所述待检测图像每个通道的特征金字塔,确定每个通道的输出结果,其中,每个通道的输出结果是所述特征金字塔按层融合确定的; 将高层的预测结果经过上采样和类的归一化,确定归一化特征图,所述预测结果包括所述缺陷目标的初始位置和所述每个通道的输出结果; 基于所述归一化特征图与当前层特征相乘,以及所述归一化特征图的逆矩阵与当前层特征相乘,确定对应层特征图像的前景特征和背景特征; 基于每一层特征图像的前景特征和背景特征,生成待检测图像的前景特征和背景特征; 将所述待检测图像的前景特征和所述背景特征通过并行的上下文检索模块,去除待检测图像的假阳缺陷目标,每个所述上下文检索模块包括多个分支,每个分支包括第一卷积层,第二卷积层和空洞卷积,其中,每个分支的第二卷积层不同。
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