中国人民解放军国防科技大学姜鑫鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉中国人民解放军国防科技大学申请的专利一种基于分层设计的双光谱动态隐身材料获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115122717B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210879241.2,技术领域涉及:B32B9/00;该发明授权一种基于分层设计的双光谱动态隐身材料是由姜鑫鹏;杨俊波;何新;张振福;罗世尚设计研发完成,并于2022-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于分层设计的双光谱动态隐身材料在说明书摘要公布了:本发明提供了一种基于分层设计的双光谱动态隐身材料,包括从上到下依次层叠的中红外相变光栅层、中间介质过渡层和微波阻抗匹配层;所述中红外相变光栅层为周期性排列于中间介质过渡层上表面的正方形凸起,用于红外光的吸收,所述正方形凸起包括从上到下层叠设置的中红外相变层和中红外反射层,所述中红外相变层材质为相变材料,所述中红外反射层材质为金属材料;所述中间介质层设置于中红外相变光栅层与微波阻抗匹配层之间,用于实现由红外光谱调制到微波光谱调制的转变;所述微波阻抗匹配层实现微波阻抗匹配层对微波吸收光谱的调控;本发明提供的基于分层设计的双光谱动态隐身材料成本低、适应性强、能实现不同光谱的分立动态调控。
本发明授权一种基于分层设计的双光谱动态隐身材料在权利要求书中公布了:1.一种基于分层设计的双光谱动态隐身材料,其特征在于:包括从上到下依次层叠的中红外相变光栅层、中间介质过渡层和微波阻抗匹配层;所述中红外相变光栅层为周期性排列于中间介质过渡层上表面的正方形凸起,用于红外光的吸收,所述正方形凸起包括从上到下层叠设置的中红外相变层和中红外反射层,所述中红外相变层材质为相变材料,所述中红外反射层材质为金属材料;所述中间介质层用于实现由红外光谱调制到微波光谱调制的转变,设置于中红外相变光栅层与微波阻抗匹配层之间;所述微波阻抗匹配层包括从上到下依次层叠的石墨烯薄膜、高阻层、第一间隔层、损耗层、第二间隔层和微波反射层,所述第一间隔层和第二间隔层均为微波透明材料,所述微波反射层的材质为金属材料,通过栅极电压调控石墨烯薄膜的方阻,实现对于微波吸收光谱的调控; 高阻层的方阻Ω1范围为2000-8000Ωsq,损耗层的方阻Ω2的范围在100-500Ωsq;所述第一间隔层和第二间隔层的厚度均为h3,厚度h3的范围在3mm-100mm; 所述中红外相变层为硫系相变材料,厚度H1在100nm-800nm之间;所述中红外反射层的厚度H2在50nm-300nm之间;所述正方形凸起的边长W为0.6μm-3μm,正方形凸起阵列的周期P为2μm-5μm;所述中间介质过渡层为透明介质材料,厚度H3的范围在0.1mm-1mm之间; 所述硫系相变材料为Ge2Sb2Te5、Ge3Sb2Te6或GeTe; 所述石墨烯薄膜的方阻范围为120-700Ωsq,厚度h1的范围在50μm-200μm;所述高阻层为喷涂有高阻导电油墨的聚酰亚胺薄膜,损耗层为喷涂有低阻导电油墨的聚酰亚胺薄膜,高阻层和损耗层的厚度均为h2,h2的范围为20μm-100μm。
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