卡帝瓦公司大卫·C·达罗获国家专利权
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龙图腾网获悉卡帝瓦公司申请的专利印刷和制造系统中的精确位置对准、校准和测量获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115188682B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210559013.7，技术领域涉及：H01L21/66；该发明授权印刷和制造系统中的精确位置对准、校准和测量是由大卫·C·达罗;克里斯托弗·布彻勒;罗伯特·B·劳伦斯;凯文·约翰·李设计研发完成，并于2018-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本印刷和制造系统中的精确位置对准、校准和测量在说明书摘要公布了：本公开提供一种用于快速、精确地确定沉积源相对于沉积目标基材的高度的高精度测量系统。在一个实施方式中，工业印刷机的两个传送路径中的每一个均安装摄像机和高精度传感器。使用这些摄像机来实现分离传送轴之间的记录，以及依据xy位置分别精确地确定高精度传感器的位置。使用高精度传感器中的之一来测量沉积源的高度，而另一个传感器测量目标基材的高度。识别这些传感器之间的相对z轴位置，以便提供两种源和目标基材的精确z坐标标识。所公开的实施方式能够实现动态、实时且高精度的高度测量，达到微米或亚微米的精确度。
本发明授权印刷和制造系统中的精确位置对准、校准和测量在权利要求书中公布了：1.一种用于在基材上制造电子产品的层的设备，所述设备包括： 印刷机，其具有印刷头； 传送机制，其包括基材支撑件，夹具； 可用作视觉对准标记的标线； 第一传感器，其耦合到所述印刷头并且检测所述标线； 第二传感器，其耦合到所述夹具并且检测所述标线， 其中将所述印刷头和夹具布置成如下的位置关系：所述第一传感器和所述第二传感器在高度方向上彼此面对，并且标线位于所述第一传感器和所述第二传感器之间；和 处理器，被配置为 控制所述第一传感器，以检测从所述第一传感器到设置在所述基材支撑件上的基材的第一高度； 控制在所述位置关系下的第一传感器和第二传感器，以检测第二高度，所述第二高度为第一传感器到标线的高度与第二传感器到标线的高度之和； 控制所述第二传感器，以检测从所述第二传感器到所述印刷头的第三高度；和 基于第一高度，第二高度和第三高度来计算从印刷头到基材的高度。
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