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龙图腾网获悉中国计量大学申请的专利一种抗激光损伤的光学反射膜系及设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116068757B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310216594.9，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权一种抗激光损伤的光学反射膜系及设计方法是由王乐;付亚娜;李旸晖;陈义;王宇杉设计研发完成，并于2023-03-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抗激光损伤的光学反射膜系及设计方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抗激光损伤的光学反射膜系及设计方法。本发明提出在初始四分之一波长厚度的反射膜系外侧新增电场调控层，通过构建新增电场调控层中膜层的物理厚度与新增电场调控层中膜层折射率的关系，来对薄膜内部电场进行优化。针对增加了电场调控层后的反射膜系，建立该膜系存在节瘤缺陷的模型，得出存在节瘤缺陷时的峰值电场。然后通过粒子群优化算法获得存在缺陷的模型中，峰值电场最小时新增电场调控层中膜层折射率。再根据得到的新增电场调控层中膜层折射率计算得到新增电场调控层中膜层的物理厚度。本发明解决了目前抗激光损伤光学反射膜系在设计过程中仅单一考虑电场分布或仅单一考虑节瘤缺陷而导致的局限问题。

本发明授权一种抗激光损伤的光学反射膜系及设计方法在权利要求书中公布了：1.一种抗激光损伤的光学反射膜系设计方法，其特征在于，包括以下步骤： 1用TFCale膜系设计软件设计初始膜系结构：Sub|HL^nH|Air； 所述H为四分之一波长厚度的高折射率膜层，L为四分之一波长厚度的低折射率膜层，n为初始反射膜堆的叠加次数，Sub是指基底一侧，Air是指空气一侧。 2在步骤1中设计的初始膜系外侧设置m对电场调控层； 所述电场调控层由低折射率膜层和高折射率膜层交替组成； 所述电场调控层中的高折射率膜层的折射率分别为n1、n2……nm； 新增第i对电场调控层中低折射率膜层的物理厚度由以下公式确定； 所述新增第i对电场调控层中高折射率膜层的物理厚度由以下公式确定； 上述公式中，和分别表示新增第i对电场调控层中低折射率膜层和高折射率膜层的物理厚度，1≤i≤m≤4；n'为电场调控层中低折射率膜层SiO2的折射率；ni为第i对电场调控层中高折射率膜层的折射率；ni-1为第i-1对电场调控层中高折射率膜层的折射率，当i＝1时，ni-1为初始膜层中最外层高折射率层的折射率；λ为反射率膜系的参考波长； 用所述公式约束电场调控层的物理厚度，使膜层内部电场得到初步优化得到初步优化的电场调控层； 3根据步骤1设计的初始膜系和步骤2中得到的初步优化的电场调控层得到一个新的反射膜系，在电磁仿真软件中对反射膜系仿真得到无节瘤缺陷时反射膜系的电场分布，在电磁仿真软件中建立反射膜系存在节瘤缺陷的模型，得到存在节瘤缺陷的膜层中的峰值电场； 4以电场调控层中膜层折射率作为桥梁，将无节瘤缺陷时反射膜系的电场分布与存在节瘤缺陷的膜层中的峰值电场增强建立起联系，设定高折射率膜层材料的折射率范围，采用粒子群优化算法确定峰值电场最小时电场调控层中高折射率膜层的折射率； 5根据步骤4中确定的电场调控层中高折射率膜层的折射率，代入步骤2的物理厚度公式计算得出电场调控层的厚度，获得优化后的电场调控层，由步骤1设计的初始膜系和优化后的电场调控层形成抗激光损伤的光学反射膜系。

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