皮姆思株式会社庾弘宇获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉皮姆思株式会社申请的专利用于OLED蒸镀的大尺寸掩模片及掩模组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288144B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211325874.5，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权用于OLED蒸镀的大尺寸掩模片及掩模组件是由庾弘宇设计研发完成，并于2022-10-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于OLED蒸镀的大尺寸掩模片及掩模组件在说明书摘要公布了：本发明涉及用于OLED蒸镀的大尺寸掩模片及组件，根据本发明，为了应用到第5.5代1300㎜X1500㎜以上的大尺寸显示器而通过焊接多个掩模片原片来制造时，得益于在被焊接的掩模片的边缘或与边缘隔开预定距离的片材内部设置的应力缓和图案，可以最小化可能由于焊接和张力等而发生的掩模片的褶皱，从而可以确保在制造大尺寸掩模片时期待的充分的平整度。
本发明授权用于OLED蒸镀的大尺寸掩模片及掩模组件在权利要求书中公布了：1.一种用于OLED蒸镀的大尺寸掩模片，其中， 作为在内部具有一个或多个单元开口部的多个掩模片在彼此相邻的边缘部分通过焊接来结合的大尺寸掩模片，包括： 一个或多个应力缓和图案，所述应力缓和图案设置在被焊接的所述掩模片的边缘或与边缘隔开预定距离的片材内部，以便缓和张力和应力, 所述单元开口部包括： 第一凹部，在从掩模片的顶面到底面的方向上被第一蚀刻而具有第一宽度和第一深度，所述第一凹部为盆型；第二凹部，在从掩模片的底面到顶面的方向上被第二蚀刻而具有第二宽度和第二深度，所述第二凹部为倒盆型；以及通孔，使得所述第一凹部与第二凹部连通并且具有小于所述第一宽度或所述第二宽度的宽度， 由于所述第一蚀刻和第二蚀刻而以150μm以下的宽度和15μm至35μm的厚度突出的突出片形成所述通孔的外圆周表面。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人皮姆思株式会社，其通讯地址为：韩国仁川市；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励