株式会社爱发科中尾裕利获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社爱发科申请的专利溅射装置、溅射装置的控制方法和溅射装置用控制装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116685709B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280008019.3，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权溅射装置、溅射装置的控制方法和溅射装置用控制装置是由中尾裕利;田中克育;望月仁志;广谷伸哉;大野哲宏设计研发完成，并于2022-03-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本溅射装置、溅射装置的控制方法和溅射装置用控制装置在说明书摘要公布了：本发明的一个方式的溅射装置具有：一个以上的靶，其与基板相向地配置且由成膜材料构成；一个以上的磁铁单元，其配置在所述靶的背面；控制装置，其具有最优解计算部，所述最优解计算部基于至少包含设定条件和由该溅射装置成膜的所述基板上的成膜材料的膜质的测定值的输入信息，计算关于至少一个所述磁铁单元的所述设定条件的最优解，所述设定条件包含各所述磁铁单元的位置、各所述磁铁单元的移动模式、以及构成各所述磁铁单元的电磁铁的流入电流或流入电流变动模式中的至少一个；以及调整单元，其能够基于所述最优解，个别地调整所述磁铁单元的所述设定条件。
本发明授权溅射装置、溅射装置的控制方法和溅射装置用控制装置在权利要求书中公布了：1.一种溅射装置，其具有： 一个以上的靶，其与基板相向地配置且由成膜材料构成； 一个以上的磁铁单元，其配置在所述靶的背面； 控制装置，其具有最优解计算部，所述最优解计算部基于至少包含设定条件和通过该溅射装置成膜的所述基板上的成膜材料的膜质的测定值的输入信息，计算关于至少一个所述磁铁单元的所述设定条件的最优解，所述设定条件包含各所述磁铁单元的位置、各所述磁铁单元的移动模式、以及构成各所述磁铁单元的电磁铁的流入电流或流入电流变动模式中的至少一个；以及 调整单元，其能够基于所述最优解，个别地调整所述磁铁单元的所述设定条件， 所述最优解计算部计算关于任意的各所述磁铁单元的所述设定条件的所述膜质的均质性的预测值；基于所述输入信息修正所述预测值，得到修正后预测值；基于所述修正后预测值，得出能够满足预先设定的规定的膜质均质性的各所述磁铁单元的所述设定条件作为所述最优解。
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