合肥工业大学钟翔获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥工业大学申请的专利基于单像素的非成像晶圆表面缺陷检测方法及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116912232B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311056927.2,技术领域涉及:G06T7/00;该发明授权基于单像素的非成像晶圆表面缺陷检测方法及存储介质是由钟翔;孙宇;曹翰昱;谷家霖;马孟超设计研发完成,并于2023-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于单像素的非成像晶圆表面缺陷检测方法及存储介质在说明书摘要公布了:本发明的一种基于单像素的非成像晶圆表面缺陷检测方法及存储介质,包括将预设编码照明图案投射到待测晶圆表面,以使所述编码照明图案经待测晶圆表面得到反射图案;采集所述反射图案的光强值,将光强值与缺陷图案进行数据分割与标签化处理;通过特征选择算法选取高相关性K个特征,并反推得到新的编码照明图案组合;将新的编码照明图案组合投射至其他待测晶圆表面之后采集反射光强值并进行特征抽取,把抽取的特征通过随机森林算法实现对晶圆缺陷的检测。本发明无需事先成像,可以直接获取待测晶圆表面的信息,因此不受物体成像质量的限制,减少光学系统、噪声、图像畸变等因素的影响,特别是避免了虚像问题,提高了晶圆表面缺陷检测的鲁棒性。
本发明授权基于单像素的非成像晶圆表面缺陷检测方法及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种基于单像素的非成像晶圆表面缺陷检测方法,其特征在于,包括以下步骤, 将预设编码照明图案投射到待测晶圆表面,以使所述编码照明图案经待测晶圆表面得到反射图案; 采集所述反射图案的光强值,将光强值与缺陷图案进行数据分割与标签化处理; 通过特征选择算法选取高相关性K个特征,并反推得到新的编码照明图案组合; 将新的编码照明图案组合投射至其他待测晶圆表面之后采集反射光强值并进行特征抽取,把抽取的特征通过随机森林算法实现对晶圆缺陷的检测; 所述将预设编码照明图案投射到待测晶圆表面,以使所述编码照明图案经待测晶圆表面得到反射图案,具体包括, 预设的编码照明图案由以下公式构建,首先由公式生成哈达玛基底图案: 其中,表示哈达玛的逆变换,而: 其中是哈达玛域的坐标; 采用差分,获得一个系数,需要两次测量;一个测量是通过投影基编码照明图案获得的,另一个是通过它的逆]获得的; 将预设编码照明图案]投影至待测晶圆表面,并使用单像素检测器来测量产生的光强度,单像素光强测量在数学上等同于哈达玛基图与物体之间的内积; 由此可以得到相应哈达玛系数: 其中,和是对应于和光照的测量值,系数是实值,系数的数量与图像像素的数量相同;使用差分对像素的图像进行完全采样需要次测量。
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