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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利清洗装置、晶圆处理设备及其清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116921374B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210373214.8，技术领域涉及：B08B11/00；该发明授权清洗装置、晶圆处理设备及其清洗方法是由陶剑峰;蒋国彪;杨哲闵;王建忠设计研发完成，并于2022-04-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本清洗装置、晶圆处理设备及其清洗方法在说明书摘要公布了：本公开涉及一种清洗装置、晶圆处理设备及其清洗方法，当控制阀处于第一工作状态时，排气管路与喷嘴相连通，便能将喷嘴内部的酸气通过排气管路向外抽出，并输出到废物排放机构；当控制阀处于第二工作状态时，清洗管路与排气管路相连通，清洗管路通入的第一清洗液通过第一端进入到排气管路，对排气管路内壁上附着的颗粒物清洁干净，第一清洗液顺势通过第二端排放到废物排放机构中。如此，排气管路内壁上附着的颗粒物会被清洗管路及时地清理掉，不会随制程配液过程中进入到半导体晶片表面而造成旋风状图形的缺陷，进而能够减少微尘颗粒数量，提高产品良率。

本发明授权清洗装置、晶圆处理设备及其清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括： 喷嘴； 排气管路，所述排气管路包括第一端与第二端，所述第二端连接到废物排放机构； 清洗管路，所述清洗管路用于通入第一清洗液； 控制阀，所述控制阀分别与所述喷嘴、所述第一端、所述清洗管路相连，所述控制阀设有第一工作状态与第二工作状态；所述控制阀处于第一工作状态时，所述排气管路与所述喷嘴相连通，用于将所述喷嘴内部的酸气通过所述排气管路向外抽出，并输出到所述废物排放机构；所述控制阀处于第二工作状态时，所述清洗管路与所述排气管路相连通，所述清洗管路通入的所述第一清洗液通过所述第一端进入到所述排气管路，用于对所述排气管路内壁上附着的颗粒物清洁，所述第一清洗液通过所述第二端排放到所述废物排放机构； 干燥管路，所述干燥管路用于通入干燥气体，所述控制阀还与所述干燥管路相连通，所述控制阀还设有第三工作状态，当所述控制阀处于所述第三工作状态时，所述干燥管路与所述排气管路相连通，用于将所述干燥气体通入到所述排气管路内，由所述干燥气体吹干所述排气管路的内壁； 输液管路，所述输液管路一端用于通入第二清洗液，所述输液管路另一端与所述喷嘴相连，用于将所述第二清洗液输送到所述喷嘴内部，由所述喷嘴进行喷吐于半导体晶片的表面上，对所述半导体晶片进行清洗操作； 清洗机构，与所述输液管路连通，所述清洗机构用于将第三清洗液通入到所述输液管路以及所述喷嘴中，以对所述输液管路以及所述喷嘴进行清洗，去除所述输液管路以及所述喷嘴上附着的所述第二清洗液； 其中，所述清洗机构与所述清洗管路与所述干燥管路共用，所述控制阀还与所述输液管路相连，所述控制阀还设有第四工作状态与第五工作状态，当控制阀处于所述第四工作状态时，所述清洗管路与所述输液管路相连通，此时所述输液管路中停止通入所述第二清洗液，也停止进行抽吸动作；当所述控制阀处于所述第五工作状态时，所述干燥管路与所述输液管路相连通，此时所述输液管路中停止通入所述第二清洗液，也停止进行抽吸动作；所述第一清洗液包括去离子水；所述第二清洗液为DHF、浓度为49%的HF或HF和HNO3的混合液、SPM、SOM、APM或HPM溶液；所述第三清洗液与所述第一清洗液相同；所述干燥气体包括氮气或惰性气体。

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