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龙图腾网获悉江苏科技大学申请的专利一种高熵合金氮化物多层膜及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117026186B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310993747.0，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种高熵合金氮化物多层膜及其制备方法与应用是由袁妍妍;李俊杰;涂昱淳设计研发完成，并于2023-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高熵合金氮化物多层膜及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高熵合金氮化物多层膜，包括交替设置的TiNx层和CrMoWABNy层，A、B均为Ⅳ‑Ⅵ主族的过渡金属元素，TiNx层、CrMoWABNy层的晶粒均沿111晶面生长，x为0.8～1.5，y为0.5～1。本发明还公开了该高熵合金氮化物多层膜的制备方法与应用。本发明的TiNx与CrMoW系五元合金之间的结合能力加强，层间模量差大，固溶效果好，力学性能好；所得TiNx和CrMoW系五元氮化物多层膜具有良好的高温力学性能，并且沿着FCC111晶面择优取向，应用在保护涂层中，可以延长使用寿命；随着CrMoW系五元合金层的层厚增加，硬度和弹性模量提高，薄膜总体的强韧性上升。

本发明授权一种高熵合金氮化物多层膜及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种高熵合金氮化物多层膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一，对硅基底进行清洗； 步骤二，将CrMoWAB靶、Ti靶装入多靶磁控溅射仪上； 步骤三，抽真空至真空室的本底真空小于8×10-5Pa后，通入氩气； 步骤四，在Ar气氛下，预沉积Ti金属薄膜，直流功率为40~60W，工作气压为0.1~0.2Pa； 步骤五，将氮气通入真空室； 步骤六，生长气压为0.5~0.6Pa时，交替溅射TiNx层和CrMoWABNy层； 所述步骤五中，氩气与氮气的流量比为18~20:10； 所述步骤六中，溅射TiNx层的功率为80~200W，时间为40~100s，溅射CrMoWABNy层的功率为40~100W，时间为5~100s，交替溅射的次数为100~300次； 所述高熵合金氮化物多层膜包括交替设置的TiNx层和CrMoWABNy层，A、B均为Ⅳ-Ⅵ主族的过渡金属元素，所述TiNx层、CrMoWABNy层的晶粒均沿111晶面生长，x为0.8~1.5，y为0.5~1。

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