上海新阳半导体材料股份有限公司王溯获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新阳半导体材料股份有限公司申请的专利一种EUV光刻胶及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117148669B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210576174.7，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种EUV光刻胶及其制备方法和应用是由王溯;方书农设计研发完成，并于2022-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种EUV光刻胶及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种EUV光刻胶及其制备方法和应用。本发明的EUV光刻胶组合物包括以下组分：以重量份数计的55‑75份式A化合物、光致产酸剂、有机碱及有机溶剂。该EUV光刻胶组合物具有低曝光剂量、高分辨率及低LER值，有良好的应用前景。式中L：R′：正丁基n‑Bu。
本发明授权一种EUV光刻胶及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种EUV光刻胶组合物，其包括以下组分：以重量份数计的55-75份式A化合物、光致产酸剂、有机碱及有机溶剂； 所述式A化合物如下所示： 其中L： R'：正丁基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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