哈尔滨理工大学胥焕岩获国家专利权
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龙图腾网获悉哈尔滨理工大学申请的专利少层非晶态硫族化合物的原位化学剪裁方法及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117486259B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311453364.0，技术领域涉及：C01G39/06；该发明授权少层非晶态硫族化合物的原位化学剪裁方法及应用是由胥焕岩;柳月设计研发完成，并于2023-11-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本少层非晶态硫族化合物的原位化学剪裁方法及应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种原位化学剪裁制备少层非晶态硫族化合物的普遍方法，以获得具有高压电性和丰富表面位点的压电催化剂，属无机非金属材料技术领域。具体制备步骤：1将1～10mmol试剂A溶于40mL碱性溶液中，获得溶液A；2将3～30mmol试剂B溶于40mL柠檬酸溶液中，获得溶液B；3将溶液B逐滴加入溶液A中，10～60min内滴加完毕；4经分离、洗涤、烘干，获得少层非晶态硫族化合物。本发明上述技术方案获得的少层非晶态硫族化合物用于压电催化、光‑压电催化裂解水产氢制氧和降解水体中的有机污染物。
本发明授权少层非晶态硫族化合物的原位化学剪裁方法及应用在权利要求书中公布了：1.一种制备硫族化合物的方法，实现其原位化学剪裁，从而获得少层非晶态硫族化合物，其特征在于包括以下工艺步骤： 1将1～10mmol试剂A溶于40mL碱性溶液中，获得溶液A； 2将3～30mmol试剂B溶于40mL柠檬酸溶液中，获得溶液B； 3将溶液B逐滴加入溶液A中，10～60min内滴加完毕； 4经分离、洗涤、烘干，获得少层非晶态硫族化合物； 其特征是所用碱性溶液为KOH、NaOH、LiOH中的一种或几种组合，其浓度为1～9molL；所用试剂A为CH4NaS、CH4N2S、SeO2、Se粉中的一种；所用试剂B为Na2MoO4·2H2O、Na2WO4·2H2O、GeO2粉、SnCl2·2H2O中的一种；柠檬酸浓度为1～30molL。
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