华南理工大学魏嫣莹获国家专利权
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龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118634658B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410791490.5，技术领域涉及：B01D69/12；该发明授权一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法是由魏嫣莹;李艳美设计研发完成，并于2024-06-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法，属于气体分离膜制备技术领域。本发明首先以硅源、模板剂和水为原料制备沸石前驱体，然后利用羧酸对含模板剂的沸石前驱体进行改性，得到无模板剂的沸石前驱体，再利用该无模板剂的沸石前驱体作为无机填料制备混合基质膜，层状沸石前驱体表面具有比常规沸石更加丰富的羟基基团，便于与聚合物结合，这些羟基基团在低温加热引发交联反应过程中与聚合物相互作用，有效解决填料与聚合物之间的相容性问题，得到高性能的无缺陷沸石分子筛基混合基质膜。
本发明授权一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法在权利要求书中公布了：1.一种低温交联制备无缺陷沸石分子筛基混合基质膜的方法，其特征在于，包括以下步骤： 将硅源、模板剂和水混合，得到混合溶液；对所述混合溶液进行搅拌老化，水热反应，得到沸石前驱体；利用羧酸对所述沸石前驱体进行改性，得到无模板剂的沸石前驱体；将所述无模板剂的沸石前驱体与聚合物以及溶剂混合，制备混合基质膜；对所述混合基质膜进行低温加热引发交联反应，得到所述无缺陷沸石分子筛基混合基质膜。
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