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龙图腾网获悉中国科学院上海高等研究院申请的专利一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统及其使用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119053004B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411161170.8，技术领域涉及：H05H13/02；该发明授权一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统及其使用方法是由谭建豪;方文程;赵振堂;黄晓霞;肖诚成;徐一茗设计研发完成，并于2024-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统及其使用方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统，包括：低电平控制系统，包括幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块，通过幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块这三个模块对矢量调制信号进行控制；功率源系统，其接收矢量调制信号，并提供功率信号；和高频腔系统，包括高频腔，所述高频腔为套设有多个磁合金环片的真空腔室管道；其中，通过对矢量调制信号进行控制，来根据粒子的回旋频率调节高频腔的谐振频率，使得质子和氦离子在每次经过高频腔时均能获得稳定的加速。本发明还提供相应的使用方法。本发明的系统在同一台的同步加速器内，同时具备同步加速质子和氦离子的功能。

本发明授权一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统及其使用方法在权利要求书中公布了：1.一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统的使用方法，其特征在于，包括： 步骤S1：提供一种用于质子和氦离子治疗装置的高频系统；所述用于质子和氦离子治疗装置的高频系统包括： 低电平控制系统，包括幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块，通过幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块这三个模块对矢量调制信号进行控制； 功率源系统，其接收矢量调制信号，并提供功率信号；和 高频腔系统，包括高频腔，所述高频腔为套设有多个磁合金环片的真空腔室管道； 其中，通过对矢量调制信号进行控制，来根据粒子的回旋频率调节高频腔的谐振频率，使得质子和氦离子在每次经过高频腔时均能获得稳定的加速； 所述低电平控制系统还包括信号源、与信号源连接以接收参考频率信号的中央控制系统，所述幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块均与中央控制系统连接，且所述幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块经过调制和混频上变频所生成的矢量调制信号与功率源系统连接； 所述中央控制系统同时与定向耦合器和高频腔连接以采集功率反射信号和腔压信号，中央控制系统根据采集到的功率反射信号和腔压信号进行矢量调制分析以输出幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块的控制指令，并通过幅度控制模块、频率控制模块和相位控制模块这三个模块对矢量调制信号进行控制；中央控制系统比较高频腔的腔压信号以及所述矢量调制信号，以判断频率是否发生偏移，并通过自适应算法对频率进行补偿；找到束流运行最佳状态，并将束流运行最佳状态时的幅度和相位设定为幅度目标值以及相位目标值，当检测到腔压信号的幅度或者相位超过此幅度目标值和相位目标值时，中央控制系统向幅度控制模块发出减小幅度输出的控制指令向相位控制模块发出减小相位输出的控制指令；当幅度或者相位低于此幅度目标值和相位目标值时，中央控制系统向幅度控制模块发出增大幅度输出的控制指令向控制相位控制模块发出增大相位输出的控制指令；在束流的最佳运行状态下，采集到的功率反射最低，采集到的腔压信号是2kV，且幅值变化范围在0.1%以内； 所述高频腔对质子和氦离子加速是独立且不同时进行的； 步骤S2：对于每一种粒子，在粒子初次抵达高频腔时，根据粒子的静止能量和动能确定粒子的回旋频率并将高频腔的谐振频率调整为粒子的回旋频率的整数倍，以使得粒子获得能量提升并再次确定粒子的回旋频率； 步骤S3：根据粒子的回旋频率确定粒子经过一周后再次抵达高频腔的时刻，在该时刻将高频腔的谐振频率调整为粒子的回旋频率的整数倍，使得粒子获得能量提升并再次确定粒子的回旋频率； 步骤S4：重复步骤S2-步骤S3，直到该粒子提升至最高能量。

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