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龙图腾网获悉华为技术有限公司申请的专利产生超临界聚焦光场的方法和超临界聚焦光头获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119065151B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310624127.X，技术领域涉及：G02F1/01；该发明授权产生超临界聚焦光场的方法和超临界聚焦光头是由李向平;王思聪;谢子健;秦飞;马亮;徐君设计研发完成，并于2023-05-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本产生超临界聚焦光场的方法和超临界聚焦光头在说明书摘要公布了：本申请实施例涉及激光调制领域，提供了一种产生超临界聚焦光场的方法、超临界聚焦光头和确定调制参数的方法，超临界聚焦光头包括光源和空间光调制器，产生超临界聚焦光场的方法包括：光源产生入射光；空间光调制器对入射光的相位进行调制，以产生满足超临界条件的聚焦光场，其中，空间光调制器的入瞳面包括N个环带，N个环带与N组调制参数一一对应，N组调制参数是根据超临界条件得到的。上述方法通过利用相邻环带之间的相位调制，使得每个环带的宽度和相位能够基于超临界条件进行迭代优化调整，从而在保持主瓣尺寸突破衍射极限的前提下，降低旁瓣能量，提升主瓣能量，使其适用于高密度光存储与激光加工。

本发明授权产生超临界聚焦光场的方法和超临界聚焦光头在权利要求书中公布了：1.一种产生超临界聚焦光场的方法，其特征在于，所述方法应用于超临界聚焦光头，所述超临界聚焦光头包括光源和空间光调制器，所述方法包括： 所述光源产生入射光； 所述空间光调制器对所述入射光的相位进行调制，以产生满足超临界条件的聚焦光场，其中，所述空间光调制器的入瞳面包括N个环带，所述N个环带与N组调制参数一一对应，所述N组调制参数中的每组调制参数包括环带宽度和调制相位，所述N个环带中的每个环带用于在对应的调制参数下对所述入射光的相位进行调制以产生衍射光，所述N个环带产生的衍射光相干使得所述聚焦光场满足所述超临界条件，N为大于1的正整数，所述N组调制参数是根据所述超临界条件得到的，所述超临界条件包括所述空间光调制器产生的聚焦光场在光轴上除焦点外的位置的强度小于所述空间光调制器产生的聚焦光场在焦点处的强度，且所述空间光调制器产生的聚焦光场在焦点处焦斑的半高全宽满足： 其中，R为所述焦斑的半高全宽，λ为所述入射光的波长，NA为所述超临界聚焦光头的数值孔径。

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