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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利形位基准件以及多面共体光学元件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119376057B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411980439.5，技术领域涉及：G02B7/00；该发明授权形位基准件以及多面共体光学元件的制造方法是由李雯研;曾雪锋;薛栋林;程强;王灵杰;张学军设计研发完成，并于2024-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本形位基准件以及多面共体光学元件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光学元件制造技术领域，尤其涉及一种形位基准件以及多面共体光学元件的制造方法，多面共体光学元件的制造方法包括：提供坯料以及形位基准件，坯料包括相连接的定位部和主体部；确定目标多面共体光学元件在参考空间坐标系中的目标坐标；将定位部设置在定位槽内，以将坯料固定在基座上；确定坯料在参考空间坐标系中的基础坐标；根据基础坐标与目标坐标的差异确定加工量，基于加工量对坯料进行加工，以获得初始多面共体光学元件；以靶球为检测参考基准，依次进行初始多面共体光学元件的多个面的相对位置检测与面形误差检测，经过迭代加工，直至获得多面共体光学元件。本发明至少有利于降低多面共体光学元件的制造难度。

本发明授权形位基准件以及多面共体光学元件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种形位基准件，其特征在于，所述形位基准件用于为多面共体光学元件的加工以及检测提供基准，所述形位基准件包括： 基座，所述基座具有定位面以及用于固定坯料的定位槽，所述定位槽设置在所述定位面上； 多个基准杆，所述多个基准杆间隔排布在所述定位槽的外圈，所述基准杆的数量至少为4个，所述基准杆的长度不同； 靶球，所述靶球设置在所述基准杆远离所述基座的端部，4个不共面的靶球建立参考空间坐标系； 所述坯料固定在所述基座上时，所述靶球均高于所述坯料顶面，采用干涉仪配合靶球对所述多面共体光学元件进行检测； 所述多面共体光学元件为离轴三反系统； 在所述参考空间坐标系中确定目标多面共体光学元件的目标坐标，利用三坐标测量仪测量坯料和形位基准件的相对空间位置，以在所述参考空间坐标系中确定所述坯料的基础坐标，根据所述基础坐标与所述目标坐标的差异确定加工量，基于所述加工量对所述坯料进行加工，以获得初始多面共体光学元件；以所述靶球为检测参考基准，依次进行所述初始多面共体光学元件的多个面的相对位置检测与面形误差检测，经过迭代加工，直至获得多面共体光学元件。

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