拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司姜宗帅获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利一种真空传输阀门、控制方法及半导体薄膜设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119419141B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411589547.X，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种真空传输阀门、控制方法及半导体薄膜设备是由姜宗帅;吴凤丽;杨华龙;郭月;马硕设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空传输阀门、控制方法及半导体薄膜设备在说明书摘要公布了：本发明公开了一种真空传输阀门、控制方法及半导体薄膜设备，该真空传输阀门应用于半导体薄膜设备，真空传输阀门包括密封阀盒，密封阀盒与所述工艺腔室之间设置有第一密封件，还包括：第二密封件，设置于所述密封阀盒上，位于第一密封件与所述工艺腔室之间；转接部，设置于所述密封阀盒上，用于将所述第二密封件固定安装于所述密封阀盒上。本发明通过在真空传输阀门的密封阀盒上设置转接部和第二密封件，并使第二密封件位于第一密封件和工艺腔室之间，这样即便当第二密封件被腐蚀或者发生气体泄漏时，也可以直接通过拆卸转接部来实现对第二密封件进行更换的效果，从而避免密封阀盒与工艺腔室断开，以此缩短设备的宕机时间，提高密封件的更换效率。
本发明授权一种真空传输阀门、控制方法及半导体薄膜设备在权利要求书中公布了：1.一种真空传输阀门，应用于半导体薄膜设备，所述半导体薄膜设备包括工艺腔室和传输腔室，所述真空传输阀门包括密封阀盒，所述密封阀盒设置于所述工艺腔室和传输腔室之间，所述密封阀盒与所述工艺腔室之间设置有第一密封件，其特征在于，所述真空传输阀门还包括： 第二密封件，设置于所述密封阀盒上，且位于所述第一密封件与所述工艺腔室之间； 转接部，可拆卸地设置于所述密封阀盒上，用于将所述第二密封件固定安装于所述密封阀盒上。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司，其通讯地址为：110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励