昆明理工大学卢建臣获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学申请的专利一种宽带隙的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119551663B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411772352.9，技术领域涉及：C01B32/184；该发明授权一种宽带隙的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带的制备方法是由卢建臣;张永;孙丽;高蕾;蔡金明设计研发完成，并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种宽带隙的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种宽带隙的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带的制备方法，属于表面合成技术领域。本发明利用1,8‑二溴‑9H‑咔唑前驱体分子在金衬底的催化作用下会发生分子内脱卤偶联和环化脱氢的策略，将1,8‑二溴‑9H‑咔唑前驱体分子沉积在金衬底表面，并在200℃温度下保温20‑40分钟，接着将所述样品冷却至室温，得到一维聚合链。然后将一维分子链样品在400℃温度下保温20‑40分钟，得到氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带。所制备的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带有3.55电子伏特的带隙，属于宽带半导体。
本发明授权一种宽带隙的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种宽带隙的氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带的制备方法，其特征在于步骤包括： 步骤1、制备金单晶基底； 步骤2、将1,8-二溴-9H-咔唑前驱体分子通过分子束外延技术沉积到保持在室温的金单晶基底上，升温至200℃，保温20-40分钟，得到一维的聚合链； 步骤3、将步骤2所得到的一维聚合链样品升温至400℃，保温20-40分钟，得到氮原子掺杂的非苯型石墨烯纳米带。
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