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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利曲线掩膜版图的相似度判定方法、装置、介质、程序产品及终端获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119624956B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510152597.X，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权曲线掩膜版图的相似度判定方法、装置、介质、程序产品及终端是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本曲线掩膜版图的相似度判定方法、装置、介质、程序产品及终端在说明书摘要公布了：本申请提供曲线掩膜版图的相似度判定方法、装置、介质、程序产品及终端，通过获取基准曲线版图和待测曲线版图，计算各自的最小外接矩形并进行初步判定。若矩形的长边和短边相对差值小于设定的第一阈值，则认为两者为相似图形，进入深度相似度判定；否则判定为不相似。在深度判定中，根据最短边宽度生成相关的分辨率参数，利用光学模拟生成光强分布图，并计算光强分布图之间的差值。若差值小于第二阈值，则最终判定为相似。本申请实现了从几何到光学特性层面对版图相似性的精确判断。解决了现有的复杂曲线版图相似性判断时存在准确性不足的问题，显著提高了相似度判定的精度和可靠性，有效提升了光学分析和设计的效率与精度。

本发明授权曲线掩膜版图的相似度判定方法、装置、介质、程序产品及终端在权利要求书中公布了：1.一种曲线掩膜版图的相似度判定方法，其特征在于，包括： 获取基准曲线版图和待测曲线版图； 生成所述基准曲线版图的最小外接矩形，作为第一矩形；生成所述待测曲线版图的最小外接矩形，作为第二矩形；基于所述第一矩形和所述第二矩形，对所述基准曲线版图和待测曲线版图执行相似度初步判定操作；相似度初步判定操作包括：若所述第一矩形和所述第二矩形的长边和短边的相对差值均小于第一阈值，则判定所述第一矩形和所述第二矩形位为相似图形；否则，判定为不相似图形； 若判定结果为相似图形，则基于模拟光强对所述基准曲线版图和待测曲线版图执行相似度深度判定操作，以生成相似度判定结果；相似度深度判定操作包括：对所述第一矩形执行光强分布生成操作，以生成所述基准曲线版图的第一光强分布图；对所述第二矩形执行光强分布生成操作，以生成所述待测曲线版图的第二光强分布图；计算所述第一光强分布图与所述第二光强分布图的光强差值；若所述光强差值小于第二阈值，则判定所述基准曲线版图和所述待测曲线版图为相似图形；否则，判定为不相似图形； 其中，对目标矩形执行所述光强分布生成操作，以生成对应的光强分布图的过程包括如下步骤：基于所述目标矩形的短边线宽，生成对应的分辨率参数，以使所述第一矩形的短边线宽和所述第二矩形的短边线宽处的清晰度一致；按照预设采样间隔，从所述目标矩形的顶部至底部依次进行采样；所述采样过程包括：对每个采样位置基于所述分辨率参数执行光学模拟操作，以生成对应的光强参数值；以采样序号为横坐标，以所述光强参数值为纵坐标，建立二维坐标系，以生成光强分布图；所述光强差值包括以下任意一个或多个：最大值差值、最小值差值和光强曲线斜率。

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