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龙图腾网获悉中国电子科技集团公司第二十四研究所申请的专利可修调金属薄膜帽形电阻的阻值计算方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119783335B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411824684.7，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权可修调金属薄膜帽形电阻的阻值计算方法是由税国华;龙翠平;朱梦蝶;刘建;刘青;阚玲;谭磊;陆泽灼;朱煜开设计研发完成，并于2024-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本可修调金属薄膜帽形电阻的阻值计算方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种可修调金属薄膜帽形电阻的阻值计算方法，包括：预先确定可修调金属薄膜帽形电阻的尺寸参数；将所述可修调金属薄膜帽形电阻划分为四个区域，并分别计算第一区域、第二区域和第三区域的电阻；根据预先确定的电阻修正参数计算第四区域的电阻；根据四个区域的电阻计算可修调金属薄膜帽形电阻的总电阻。本发明中，采用对高精度放大器的可修调金属薄膜帽形电阻部分电阻计算采用拆分并联的方式，并增加修正因子，通过分段和流片相结合的拟合方式得到的可修调金属薄膜帽形电阻的计算方法，计算得到的电阻误差均在5％以内，计算的电阻精度有明显提升，可以用于高精度放大器的可修调金属薄膜帽形电阻设计。

本发明授权可修调金属薄膜帽形电阻的阻值计算方法在权利要求书中公布了：1.一种可修调金属薄膜帽形电阻的阻值计算方法，所述可修调金属薄膜帽形电阻包括帽盖结构以及分别设置在帽盖结构两侧的第一帽檐结构和第二帽檐结构，所述第一帽檐结构的宽度和第二帽檐结构的宽度相等，其特征在于，包括以下步骤： S100、预先确定可修调金属薄膜帽形电阻的尺寸参数，所述尺寸参数包括第一帽檐结构的长度、第二帽檐结构的长度、第一帽檐结构和第二帽檐结构的宽度、帽盖结构的长度以及帽盖结构与第一帽檐结构的宽度差； S200、将所述可修调金属薄膜帽形电阻划分为四个区域，其中，将所述第一帽檐结构所在区域划分为第一区域，将所述第二帽檐结构所在区域划分为第二区域，所述帽盖结构的下部与第一帽檐结构和第二帽檐结构齐平的区域为第三区域，所述帽盖结构的剩余区域为第四区域； S300、根据所述可修调金属薄膜帽形电阻的第一区域的宽度和长度计算第一区域的电阻R1；根据所述可修调金属薄膜帽形电阻的第二区域的宽度和长度计算第二区域的电阻R2；根据所述可修调金属薄膜帽形电阻的第三区域的宽度和长度计算第三区域的电阻R3； S400、根据预先确定的电阻修正参数计算可修调金属薄膜帽形电阻的第四区域的电阻R4； S500、根据可修调金属薄膜帽形电阻的第一区域、第二区域、第三区域和第四区域的电阻计算可修调金属薄膜帽形电阻的总电阻R。

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