高梵(浙江)信息技术有限公司吴昆明获国家专利权
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龙图腾网获悉高梵(浙江)信息技术有限公司申请的专利一种真空纳米防水透气面料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119820964B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510140054.6，技术领域涉及：B32B27/32；该发明授权一种真空纳米防水透气面料及其制备方法是由吴昆明;李伟设计研发完成，并于2025-02-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种真空纳米防水透气面料及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种真空纳米防水透气面料及其制备方法，所述面料包括里层和防水面层以及用于连接在里层和防水面层之间的复合中层；所述复合中层包括相对而设置并用于分别与里层和防水面层相对一面连接的支撑层一和支撑层二，所述支撑层一和支撑层二上对称开设有凹槽，所述支撑层一和支撑层二的凹槽之间形成腔体，所述腔体内部设有至少两个抗撕裂支撑结构。本发明通过在支撑层一和支撑层二之间形成立式支撑件一、立式支撑件二、加固层、透气筋管、防护挡座部的结构设计可以同时显著地提高面料的横向、纵向的抗拉伸性能和回弹性能，使得面料不易变形，经久耐用，同时还能提高面料的防钻绒效果。
本发明授权一种真空纳米防水透气面料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种真空纳米防水透气面料，其特征在于：包括里层1和防水面层3以及用于连接在里层1和防水面层3之间的复合中层2； 所述复合中层2包括相对而设置并用于分别与里层1和防水面层3相对一面连接的支撑层一21和支撑层二22，所述支撑层一21和支撑层二22上对称开设有凹槽，所述支撑层一21和支撑层二22的凹槽之间形成腔体，所述腔体内部设有至少两个抗撕裂支撑结构； 所述抗撕裂支撑结构包括呈对角线式设置并分别设于支撑层一21和支撑层二22上的立式支撑件一23和立式支撑件二24，所述立式支撑件一23和立式支撑件二24均包括固定部和缝制部，所述固定部与凹槽内壁相连接，所述立式支撑件一23和立式支撑件二24的缝制部相互竖直叠合且中间设有内部为空心的透气筋管26，通过缝制线将透气筋管26上下方相互竖直叠合的两个缝制部缝制固定在一起以形成加固层25。
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