中国科学院宁波材料技术与工程研究所曹鸿涛获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院宁波材料技术与工程研究所申请的专利一种基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119846860B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510223348.5，技术领域涉及：G02F1/00；该发明授权一种基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面是由曹鸿涛;丁文静;高俊华;辛若晨;杨登;刘奇设计研发完成，并于2025-02-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面，属于光学超构表面领域，包括衬底和衬底上的介质层，金属纳米线阵列垂直嵌入到介质层后形成超材料；先将部分区域的超材料通过光刻形成两个高度一致的圆柱体，为一个二聚体元胞，其余部分区域的超材料按若干个二聚体元胞周期性排列的方式进行光刻，形成基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面。本发明通过调整二聚体元胞的尺寸、间距、材料特性以及周期性阵列的排列方式，来精准调整折射率，设计出兼具高Q值和高灵敏度的QBIC结构，在高灵敏度传感、量子光学、非线性增强、低损耗激光器等诸多方面具有广阔的应用前景。
本发明授权一种基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面在权利要求书中公布了：1.一种基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面，其特征在于，包括衬底和衬底上的介质层，金属纳米线阵列垂直嵌入到介质层后形成超材料，其中，所述的介质层为半导体透明介质或陶瓷透明介质； 先将部分区域的超材料通过光刻形成两个高度一致的圆柱体，为一个二聚体元胞，其余部分区域的超材料按若干个二聚体元胞周期性排列的方式进行光刻，形成基于纳米线双曲超材料的QBIC超构表面，其中，二聚体元胞中圆柱一和圆柱二的半径为50nm~400nm，高为50nm~500nm； 二聚体元胞在二维平面方向上的周期为500nm~2000nm，在二维平面方向上的周期为500nm~2000nm； 二聚体元胞在初始高度平移对称性下两圆柱圆心距离为，，破坏方向上平移对称性后的两圆柱圆心距离为，。
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