甬江实验室施跃春获国家专利权
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龙图腾网获悉甬江实验室申请的专利外腔激光器和设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119905900B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411934114.3，技术领域涉及：H01S5/14；该发明授权外腔激光器和设备是由施跃春;梁怡宁;吕业刚设计研发完成，并于2024-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本外腔激光器和设备在说明书摘要公布了：本申请属于激光器领域，具体公开了一种外腔激光器和设备，该外腔激光器包括增益芯片、外部共振腔和耦合模块，所述增益芯片和外部共振腔通过所述耦合模块耦合连接，其中，所述外部共振腔包括波导结构、光栅和相变材料层，所述光栅设置在所述波导结构上，所述相变材料层层叠设置在所述光栅的表面上，且包括相互连接的平面部和凸起部，所述凸起部填充在所述光栅的凹槽中。由此，该外腔激光器可在实现波长快速调谐的同时降低能耗。
本发明授权外腔激光器和设备在权利要求书中公布了：1.一种外腔激光器，其特征在于，包括增益芯片、外部共振腔和耦合模块，所述增益芯片和外部共振腔通过所述耦合模块耦合连接，其中， 所述外部共振腔包括波导结构、光栅和相变材料层，所述光栅设置在所述波导结构上，所述相变材料层层叠设置在所述光栅的表面上，且包括相互连接的平面部和凸起部，所述凸起部填充在所述光栅的凹槽中； 所述相变材料层包括锗锑硒碲； 所述光栅的光栅周期为350nm~359nm； 所述光栅的占空比为50%； 所述光栅的深度为40nm~50nm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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