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龙图腾网获悉锦州精辰半导体有限公司申请的专利一种半导体碳化硅涂层加工用化学气相沉积装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120536895B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511039412.0，技术领域涉及：C23C16/44；该发明授权一种半导体碳化硅涂层加工用化学气相沉积装置及方法是由潘连胜;何翠翠;张季明;高雪冬;李庄;韩汀钰;杨睿宁;刘文涛设计研发完成，并于2025-07-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体碳化硅涂层加工用化学气相沉积装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及沉积装置技术领域，特别是涉及一种半导体碳化硅涂层加工用化学气相沉积装置及方法，包括操作台，所述操作台的内部设置有对物料进行加工的反应桶，反应桶的顶部设置有对其进行密封的密封盖，且反应桶的内部还设置有对物料进行加工的若干个喷涂器，所述反应桶的内部设置有带动喷涂器进行翻转或保护的翻转机构，密封盖和翻转机构之间还设置有对带动喷涂器进行移动的平移机构；本发明通过翻转机构、调节机构、电动液压杆、固定杆和密封盖等结构的配合，降低了物料与喷涂器发生碰撞或刮擦的风险，从而切实保护了人员和物料的安全，避免了因意外接触而造成的损伤，同时，还能确保喷涂器的出气管始终保持洁净，延长了设备的使用寿命。

本发明授权一种半导体碳化硅涂层加工用化学气相沉积装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体碳化硅涂层加工用化学气相沉积装置，包括操作台，所述操作台的内部设置有对物料进行加工的反应桶，反应桶的顶部设置有对其进行密封的密封盖，且反应桶的内部还设置有对物料进行加工的若干个喷涂器，其特征在于，所述反应桶的内部设置有带动喷涂器进行翻转或保护的翻转机构，翻转机构能够驱动喷涂器在对物料进行加工时将喷涂器移动到物料的正方，在对物料进行取放时对喷涂器进行收纳，密封盖和翻转机构之间还设置有对带动喷涂器进行移动的平移机构，平移机构能够在物料进行取放时，将喷涂器移动到物料的侧面； 所述翻转机构包括设置在反应桶内部的电动液压杆和承载板，电动液压杆的输出轴外部设置有对物料进行存放的存料板，存料板与反应桶之间设置有定位环，定位环与喷涂器之间设置有调节机构； 所述调节机构包括设置在定位环上的高度板，高度板远离电动液压杆的一端固定有顶板； 所述顶板远离高度板的一端转动安装有连接杆，连接杆的底部与导向板的顶部相固定，且顶板远离高度板的一端固定有防护框，防护框靠近导向板的一侧开有防护腔； 所述顶板的下方设置有导向板，顶板与导向板之间设置有升降杆，导向板远离升降杆的一侧固定有导向柱，且导向板的中部开设有滑槽，升降杆远离顶板的一端与喷涂器相固定； 所述平移机构包括转动安装在密封盖中的螺纹杆，螺纹杆的底部螺接有螺母，螺母与升降杆之间铰接有斜杆，定位环的外壁还固定有延展框，延展框的顶部开设有与高度板相适配的移动槽； 所述螺母的外部还设置有套环，螺母与密封盖之间设置有卡杆，升降杆的顶部固定有滑柱，密封盖的底部开设有便于滑柱移动的凹槽。

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