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龙图腾网获悉青州市鲁冠塑料有限公司申请的专利一种高强度高透光率的减反射膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120716274B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511167651.4，技术领域涉及：B32B27/30；该发明授权一种高强度高透光率的减反射膜及其制备方法是由徐蕾设计研发完成，并于2025-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高强度高透光率的减反射膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种高强度高透光率的减反射膜及其制备方法，涉及减反射膜技术领域。所述减反射膜包括内层、中间层、外层、涂覆层；内层原料包括乙烯‑乙酸乙烯酯共聚物、纳米二氧化铈、乙烯‑丙烯酸共聚物、抗氧化剂；中间层原料包括茂金属线性低密度聚乙烯、低密度聚乙烯、纳米氮化硼、马来酸酐接枝聚乙烯、抗氧化剂、光稳定剂；外层原料包括纳米氟化镁、乙烯‑乙酸乙烯酯共聚物、茂金属线性低密度聚乙烯、马来酸酐接枝聚乙烯、光稳定剂、硅烷偶联剂；涂覆层原料包括中空二氧化硅包覆氮化硼复合材料、稀释剂、固化剂。本发明制备的减反射膜光学性能优异、力学性能强、稳定性好。

本发明授权一种高强度高透光率的减反射膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高强度高透光率的减反射膜，其特征在于：所述减反射膜由内层、中间层、外层、涂覆层组成； 所述内层原料组分包括：乙烯-乙酸乙烯酯共聚物60-70份、纳米二氧化铈3-5份、乙烯-丙烯酸共聚物5-10份、抗氧化剂0.1-0.2份； 所述中间层原料组分包括：茂金属线性低密度聚乙烯40-50份、低密度聚乙烯10-15份、纳米氮化硼3-5份、马来酸酐接枝聚乙烯5-8份、抗氧化剂0.2-0.3份、光稳定剂0.3-0.5份； 所述外层原料组分包括：纳米氟化镁8-10份、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物10-20份、茂金属线性低密度聚乙烯30-40份、马来酸酐接枝聚乙烯5-8份、光稳定剂0.3-0.5份、硅烷偶联剂0.5-1份； 所述涂覆层原料组分包括：中空二氧化硅包覆氮化硼复合材料60-70份、稀释剂20-30份、固化剂5-8份；所述稀释剂为质量分数为10-20%的乙醇溶液； 以上份数均以重量份计； 所述中空二氧化硅包覆氮化硼复合材料：由正硅酸乙酯在氨基化氮化硼表面原位合成二氧化硅纳米颗粒，再加入盐酸反应，得到中空二氧化硅包覆氮化硼复合材料。

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