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龙图腾网获悉安徽大学申请的专利多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂及通孔刻蚀工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120717696B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511178969.2，技术领域涉及：C03C15/00；该发明授权多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂及通孔刻蚀工艺是由沈登科;刘兵设计研发完成，并于2025-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂及通孔刻蚀工艺在说明书摘要公布了：本发明属于微电子封装玻璃基板加工领域，涉及多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂及通孔刻蚀工艺，刻蚀剂包括22%‑34%碱性刻蚀剂、0%‑30.3%金属络合控制剂、21.3%‑28.5%界面活化能调节剂、水；碱性刻蚀剂包括强碱刻蚀剂及有机弱碱；金属络合控制剂包括羧酸类有机物、膦酸类有机物、吡啶类配位辅助剂和多羟基类有机物；界面活化能调节剂包括无机盐和表面活性剂。该刻蚀剂性能稳定，适用于高精度通孔加工，可实现高达20:1的深径比；可精准调控通孔锥度，使腰孔与表孔尺寸比在1:2至1:1范围内精确可控，在超大尺寸玻璃基板≥510mm×515mm上可实现不良孔率0.003%；不含氟相关化合物，具有多次循环能力，绿色环保。

本发明授权多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂及通孔刻蚀工艺在权利要求书中公布了：1.多掺杂复杂成分的非晶网络玻璃基板上通孔刻蚀用的刻蚀剂，其特征在于：包括以下质量百分含量的组分： 碱性刻蚀剂：22%-34%； 金属络合控制剂：0%-30.3%； 界面活化能调节剂：21.3%-28.5%； 其余为水； 所述碱性刻蚀剂包括强碱刻蚀剂和有机弱碱；所述有机弱碱为二甲胺、甲烷三胺中的至少一种； 所述金属络合控制剂包括羧酸类有机物、膦酸类有机物、吡啶类配位辅助剂和多羟基类有机物； 所述界面活化能调节剂包括无机盐、表面活性剂； 和或， 所述强碱刻蚀剂为氢氧化钾、氢氧化钠中的至少一种； 和或， 所述羧酸类有机物是二乙烯三胺五乙酸、环己烷二胺四乙酸、乙二胺四乙酸、亚氨基二乙酸、次氮基三乙酸、戊二酸中的至少一种； 和或， 所述膦酸类有机物是氨基三甲叉膦酸、二乙烯三胺五甲叉膦酸、乙二胺四甲叉膦酸、亚氨基二甲基膦酸、异亚丙基二膦酸、依替膦酸中的至少一种； 和或， 所述吡啶类配位辅助剂是5,5’-二甲基-2,2’-联吡啶、[2,2’-联吡啶]-5,5’-二醇中的至少一种； 和或， 所述多羟基类有机物是葡萄糖酸、酒石酸中的至少一种； 和或， 所述无机盐为硝酸钾、硝酸钠中的至少一种； 和或， 所述表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵。

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