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浙江焜腾红外技术股份有限公司詹健龙获国家专利权

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龙图腾网获悉浙江焜腾红外技术股份有限公司申请的专利一种小孔径下高铟柱的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120727592B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511220733.0,技术领域涉及:H01L21/60;该发明授权一种小孔径下高铟柱的制备方法是由詹健龙;范斌设计研发完成,并于2025-08-29向国家知识产权局提交的专利申请。

一种小孔径下高铟柱的制备方法在说明书摘要公布了:本申请涉及半导体制造的领域,尤其是涉及一种小孔径下高铟柱的制备方法,具体包括以下步骤,在待成型铟柱阵列的器件表面匀胶,胶厚为10‑12μm;进行100℃且持续2min的前烘;进行3.8‑4.2s的曝光以将光刻胶角度控制在133‑137°;显影和定影以成型孔径小于7μm的开孔;进行110℃且持续1min的坚膜烘烤;进行铟柱的蒸发沉积;剥离光刻胶,以在小孔径下成型较高高度的铟柱,提升铟柱质量。

本发明授权一种小孔径下高铟柱的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种小孔径下高铟柱的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤: S1、在待成型铟柱阵列的器件表面匀胶,胶厚为10-12μm; S2、进行100℃且持续2min的前烘; S3、进行3.8-4.2s的曝光以将光刻胶角度控制在133-137°; S4、显影和定影以成型孔径小于7μm的开孔; S5、进行110℃且持续1min的坚膜烘烤; S6、进行铟柱的蒸发沉积; S7、剥离光刻胶。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人浙江焜腾红外技术股份有限公司,其通讯地址为:314000 浙江省嘉兴市经济技术开发区昌盛南路36号嘉兴智慧产业创新园10号楼104室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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