上海稷以科技有限公司彭帆获国家专利权
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龙图腾网获悉上海稷以科技有限公司申请的专利一种改善等离子氮化腔体气流均匀性的匀气装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223548071U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423011445.8，技术领域涉及：C23C8/36；该实用新型一种改善等离子氮化腔体气流均匀性的匀气装置是由彭帆设计研发完成，并于2024-12-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种改善等离子氮化腔体气流均匀性的匀气装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种改善等离子氮化腔体气流均匀性的匀气装置，包括空心筒体，空心筒体中部设有供支撑柱穿过的贯穿孔，所述空心筒体顶部均匀分布有匀气孔，所述空心筒体底部设有抽气口，所述抽气口套接于等离子氮化机台工艺腔体的排气口。本实用新型与现有技术相比的优点是：提高气流均匀性：该匀气装置能够引导气流均匀分布，从而避免局部区域气流过快或过慢的现象，使得气体在腔体内的分布更加均匀，确保等离子氮化过程的均匀性，提高生产的良率。同时，简化设计与降低成本。
本实用新型一种改善等离子氮化腔体气流均匀性的匀气装置在权利要求书中公布了：1.一种改善等离子氮化腔体气流均匀性的匀气装置，包括空心筒体，空心筒体中部设有供支撑柱穿过的贯穿孔，其特征在于：所述空心筒体顶部均匀分布有匀气孔，所述空心筒体底部设有抽气口，所述抽气口套接于等离子氮化机台工艺腔体的排气口；所述匀气孔的直径从远离抽气口位置向靠近抽气口位置逐渐减小，以缓解抽气口位置气体流速过大的问题；所述空心筒体顶部分为三个区域，分别为Ⅰ区、Ⅱ区和Ⅲ区，每个区域内的匀气孔尺寸不等，其中，Ⅰ区大孔个数为50-80个，直径为5mm-7mm；Ⅱ区中孔个数为50-70个，直径为4mm-6mm；Ⅲ区小孔个数为40-60个，直径为2mm-4mm。
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