泽鸿半导体设备科技(苏州)有限公司朱大军获国家专利权
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龙图腾网获悉泽鸿半导体设备科技(苏州)有限公司申请的专利一种适用于磁控溅射设备的镀膜刻蚀装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223548078U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423243137.8，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种适用于磁控溅射设备的镀膜刻蚀装置是由朱大军;刘晓涵;李祥明设计研发完成，并于2024-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适用于磁控溅射设备的镀膜刻蚀装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种适用于磁控溅射设备的镀膜刻蚀装置，属于半导体制造技术领域，包括工艺腔室，还包括旋转反应基板组，旋转驱动电机，靶材，电极接口和抽气口，旋转反应基板组安装在工艺腔室内部，旋转反应基板组的一侧安装有旋转驱动电机，旋转驱动电机驱动旋转反应基板组进行旋转，并将靶材设置于工艺腔室上方；所述旋转反应基板组的另一侧安装有电极接口；工艺腔室底部安装有抽气口。通过上述方式，能够有效的提高镀膜效率，靶材周围区域内的高浓度等离子体与反应样品的接触更大，通过控制腔内粒子作长时间短距离的运动，进而增大与气体的碰撞几率并完成溅射。
本实用新型一种适用于磁控溅射设备的镀膜刻蚀装置在权利要求书中公布了：1.一种适用于磁控溅射设备的镀膜刻蚀装置，包括工艺腔室1，其特征在于：还包括旋转反应基板组2、旋转驱动电机3、靶材4、电极接口5和抽气口6，旋转反应基板组2安装在工艺腔室1内部，旋转反应基板组2的一侧安装有旋转驱动电机3，旋转驱动电机3驱动旋转反应基板组2进行旋转，并将靶材4设置于工艺腔室1上方；所述旋转反应基板组2的另一侧安装有电极接口5；工艺腔室1底部安装有抽气口6。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人泽鸿半导体设备科技(苏州)有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市吴中区木渎镇珠江南路888号科技创业园3号楼3120室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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