先材(深圳)半导体科技有限公司张晶获国家专利权
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龙图腾网获悉先材(深圳)半导体科技有限公司申请的专利一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223548096U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-14发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423185118.4，技术领域涉及：C23C16/511；该实用新型一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备是由张晶;王陶;罗显靖;胡向阳设计研发完成，并于2024-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备在说明书摘要公布了：本申请涉及等离子体化学气相沉积技术领域，尤其涉及一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备。该样品台包括样品台主体，所述样品台主体具有适于放置衬底的正面和适于接触冷却台的背面，其中，所述背面的中心位置设有中心凸起，所述背面的边缘位置设有环形凸台，所述中心凸起和所述环形凸台之间形成环形槽；所述环形槽的槽深由所述中心凸起至所述环形凸台呈增加趋势。本申请提供的样品台根据衬底在沉积过程中的热量分布的特点或等离子体球分布的特点进行针对性地补偿，使中心凸起对应与衬底的高温区域，并使环形槽对应与衬底的低温区域，从而使得衬底上的热量分布比较均匀，进而能够提升所形成的金刚石膜的性能和质量。
本实用新型一种用于MPCVD设备的样品台及MPCVD设备在权利要求书中公布了：1.一种用于MPCVD设备的样品台，其特征在于，包括样品台主体1，所述样品台主体1具有适于放置衬底100的正面和适于接触冷却台200的背面，其中，所述背面的中心位置设有中心凸起11，所述背面的边缘位置设有环形凸台12，所述中心凸起11和所述环形凸台12之间形成环形槽13； 所述环形槽13的槽深由所述中心凸起11至所述环形凸台12呈增加趋势。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人先材(深圳)半导体科技有限公司，其通讯地址为：518000 广东省深圳市龙华区观澜街道新澜社区观光路1301-33号201；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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