ASML荷兰有限公司任志榆获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利时间相关缺陷检查装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112640026B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980056389.2，技术领域涉及：H01J37/22；该发明授权时间相关缺陷检查装置是由任志榆;祃龙;王勇军;蒋军设计研发完成，并于2019-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本时间相关缺陷检查装置在说明书摘要公布了：公开了一种改进的带电粒子束检查装置，更具体公开了一种用于检测薄型器件结构的缺陷的粒子束检查装置。束检查装置包括：带电粒子束源，其用于在时间序列上将带电粒子引导到晶片的受检查的位置处；以及控制器，该控制器被配置为在时间序列上的不同时间对晶片的区域的多个图像510‑538进行采样。多个图像被比较，以检测电压对比差异或电压对比改变560‑564，以标识薄型器件结构缺陷562。
本发明授权时间相关缺陷检查装置在权利要求书中公布了：1.一种用于检查晶片的带电粒子束系统，包括： 带电粒子束源，包括电路系统，所述电路系统在一个或多个时间序列上将带电粒子引导到所述晶片的一个或多个区域；以及 控制器，包括电路系统，所述电路系统用于： 在所述一个或多个时间序列中的第一时间序列期间，生成所述一个或多个区域中的第一区域的第一组图像；以及 处理所述第一组图像，以检测所述晶片中的薄型器件结构中的缺陷， 其中所述控制器包括电路系统，所述电路系统用于调整所述第一组图像中的每个图像的生成之间的时间间隔，并且 其中所述控制器包括电路系统，所述电路系统用于： 在所述一个或多个时间序列中的第二时间序列期间，生成所述一个或多个区域中的所述第一区域的第二组图像； 从所述第一组图像中采样第一图像，而从所述第二组图像中采样第二图像；以及 比较所述第一图像与所述第二图像，以标识所述晶片的所述一个或多个区域中的所述第一区域处的所述缺陷。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人ASML荷兰有限公司，其通讯地址为：荷兰维德霍温；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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