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龙图腾网获悉苏州厚朴传感科技有限公司申请的专利一种带深腔的晶圆级红外光学窗口获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114373738B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111681262.5，技术领域涉及：H01L23/544；该发明授权一种带深腔的晶圆级红外光学窗口是由樊利花;侯树军;林达世设计研发完成，并于2021-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种带深腔的晶圆级红外光学窗口在说明书摘要公布了：本发明公开了一种带深腔的晶圆级红外光学窗口，涉及到红外光学窗口领域，包括晶圆，所述晶圆的表面制作有带深腔的晶圆级红外窗口单元，所述晶圆的外围有用激光打穿的4个十字对准标记。本发明所有光刻图案均在平面上制作，避免在已经制备好深腔晶圆的上进行光刻造成的光刻胶旋涂不均，去胶困难问题，本发明全流程使用光刻方法进行图形制作，避免使用机械掩膜在深槽内制作图形造成的图形边缘衍出问题，且可以实现带深腔红外晶圆级封装窗口小型化需求，单个光窗的尺寸最小可达到微米级，光窗单元尺寸范围可设置在500um‑5mm，一般机械掩膜镀膜很难完成此规格下小尺寸的光窗制备。

本发明授权一种带深腔的晶圆级红外光学窗口在权利要求书中公布了：1.一种带深腔的晶圆级红外光学窗口，包括晶圆1，其特征在于：所述晶圆1的表面制作有带深腔的晶圆级红外窗口单元2，所述晶圆1的外围有用激光打穿的4个十字对准标记3；所述带深腔的晶圆级红外光学窗口具体制作方法为：平面晶圆1→制作对准标记→晶圆表面旋涂光刻胶、曝光、显影出红外光学薄膜图形→镀红外光学膜→依照旋涂光刻胶、曝光、显影方法制作出镀吸气剂图形→镀吸气剂→再次依照旋涂光刻胶、曝光、显影出红外窗口单元外围焊接圈层图形→电镀钛打底，电镀铜深腔，电镀钛粘接层、电镀金层用于焊接→去除光刻胶保护层→完成带深腔的晶圆级红外光学窗口；所述晶圆1表面用激光刻穿4个十字作为对准标记，用于封装时与芯片晶圆进行对准，及封装后进行切割对准；所述旋涂光刻胶的厚度为50-100um；在晶圆表面旋涂光刻胶、曝光、显影出红外光学薄膜图形后镀制红外膜，所述红外膜厚度在1-10um范围内，所述红外膜尺寸范围在500um-5mm，所述红外膜种类为增透膜、截止膜、带通滤光膜，完成后去除光刻胶；在红外膜完成的基础上旋涂光刻胶、曝光、显影方法制作出镀吸气剂图形，镀吸气剂，所述吸气剂成分为钛、锆、钒，所述吸气剂厚度2um，完成后去除光刻胶；在吸气剂完成的基础上旋涂光刻胶、曝光、显影制作出电镀铜深腔的图形，电镀30nm厚的钛用于打底，电镀铜100um作为深腔主体，电镀钛30nm用于粘结层，电镀金800nm用于焊接，完成后去除光刻胶，完成带深腔晶圆级光窗制备。

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