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龙图腾网获悉徕泰信光(深圳)半导体有限责任公司申请的专利一种半导体多层膜体系膜-膜间界面光吸收率的测试方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115406848B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211011973.6，技术领域涉及：G01N21/31；该发明授权一种半导体多层膜体系膜-膜间界面光吸收率的测试方法是由张建国;王广飞;孟祥翔;谢赛博;杨冬雅设计研发完成，并于2022-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体多层膜体系膜-膜间界面光吸收率的测试方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体多层膜技术领域。本发明提供了一种半导体多层膜体系膜‑膜间界面光吸收率的测试方法，通过构建参考膜、对比膜，参考膜和对比膜中所用基底、整体的厚度均完全相同，唯一不同的是参考膜和对比膜中高折射率薄膜、低折射率薄膜之间的界面层数不同，两者在中心波长处具有相同的光学特性，因此构建的参考膜和对比膜可以用于研究薄膜与薄膜界面之间的光吸收；通过本发明的方法可以测试多层膜体系的膜‑膜间界面光吸收，进而对薄膜‑薄膜间的界面吸收损耗进行评估；本发明的测试方法适用于不同折射率大小的薄膜之间的界面光吸收，也适用于不同厚度下的薄膜之间的界面光吸收，具有良好的通用性和拓展性。

本发明授权一种半导体多层膜体系膜-膜间界面光吸收率的测试方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体多层膜体系膜-膜间界面光吸收率的测试方法，其特征在于，包括以下步骤： 构建参考膜，所述参考膜包括：第一基底以及位于所述第一基底上相互叠加的第一高折射率薄膜、第一低折射率薄膜； 构建对比膜，所述对比膜包括：第二基底以及位于所述第二基底上多个相互依次交错设置的第二高折射率薄膜、第二低折射率薄膜； 所述第一高折射率薄膜、所述第二高折射率薄膜所用的材料相同；所述第一低折射率薄膜、所述第二低折射率薄膜所用的材料相同； 所述第一基底、所述第二基底的厚度以及所用的材料均相同； 所述第一高折射率薄膜的厚度等于多个第二高折射率薄膜的厚度之和； 所述第一低折射率薄膜的厚度等于多个第二低折射率薄膜的厚度之和； 测试所述参考膜在中心波长下的光吸收率； 测试所述对比膜在中心波长下的光吸收率； 将对比膜中光吸收率减去参考膜光吸收率，得到光吸收率差值； 将所述对比膜中第二高折射率薄膜、第二低折射率薄膜的界面层数减去所述参考膜中第一高折射率薄膜与第一低折射率薄膜的界面层数，得到界面层数差值； 将光吸收率差值除以界面层数差值即得膜-膜间界面光吸收率； 所述第二高折射率薄膜的厚度为第二高折射率薄膜的12波长的光学厚度； 所述第二低折射率薄膜的厚度为第二低折射率薄膜的12波长的光学厚度。

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