细美事有限公司李东润获国家专利权
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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利基板处理装置及使用其的基板处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116061575B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211277356.0，技术领域涉及：B41J3/407；该发明授权基板处理装置及使用其的基板处理方法是由李东润设计研发完成，并于2022-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置及使用其的基板处理方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种具有提高的效率和生产率的基板处理装置。本发明的基板处理装置包括：工作台，沿第一方向延伸，并且在所述第一方向上移动基板，所述工作台具有气浮系统；门架，在所述工作台上方沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸；头模块，设置在所述门架上，并且能够在所述第二方向上移动；以及位移传感器，设置在所述头模块的内部，并用于测量所述基板与所述工作台之间的距离，其中，在第一位置处，所述头模块向所述基板排放墨，以及所述位移传感器测量所述基板与所述工作台之间的第一间隔距离，以及在与所述第一位置不同的第二位置处，所述头模块向所述基板排放墨，以及所述位移传感器测量所述基板与所述工作台之间的第二间隔距离。
本发明授权基板处理装置及使用其的基板处理方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，包括： 工作台，沿第一方向延伸，并且在所述第一方向上移动基板，所述工作台具有气浮系统； 门架，在所述工作台上方沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸； 头模块，设置在所述门架上，并且能够在所述第二方向上移动，包括朝向所述基板排放墨的喷嘴单元；以及 位移传感器，设置在所述头模块的内部，并用于测量所述基板与所述工作台之间的距离， 其中，在第一位置处，所述头模块向所述基板排放墨，同时所述位移传感器测量所述基板与所述工作台之间的第一间隔距离，以及 在与所述第一位置不同的第二位置处，所述头模块向所述基板排放墨，同时所述位移传感器测量所述基板与所述工作台之间的第二间隔距离； 其中，所述工作台与所述喷嘴单元之间的竖直距离与所述工作台与所述位移传感器之间的竖直距离相同。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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