中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司陈术获国家专利权
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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116068840B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111294787.3,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法是由陈术;严中稳;朱皖骄设计研发完成,并于2021-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法在说明书摘要公布了:一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法,其中,光学邻近修正方法包括:获取初始版图;对初始版图进行曝光处理,获取初始曝光版图;当在初始曝光版图中检测到缺陷时,以预设最小移动步长,对初始版图进行n次探测光学邻近迭代修正;在所述n次探测光学邻近迭代修正后,获取与若干第n探测待修正边一一对应的若干最佳移动步长,最佳移动步长大于或等于所述预设最小移动步长;根据若干最佳移动步长,对第n探测版图进行m次第一光学邻近迭代修正,获取第一修正版图。从而,减少光学邻近修正过程中发生缺陷的风险,有效提升了光学邻近修正的效率。
本发明授权光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法在权利要求书中公布了:1.一种光学邻近修正方法,其特征在于,包括: 获取初始版图,所述初始版图包括若干初始图形; 对所述初始版图进行曝光处理,获取初始曝光版图; 检测所述初始曝光版图的缺陷; 提供预设窗口,并以预设窗口分割所述若干初始图形的轮廓,获取若干片段; 当在所述初始曝光版图中检测到缺陷时,根据在所述初始曝光版图中检测到的缺陷,在所述若干片段中获取若干初始待修正边; 对所述初始版图进行n次探测光学邻近迭代修正,所述n是自然数,并且,第i次探测光学邻近迭代修正的方法包括:将第i-1探测版图中的若干第i-1探测待修正边移动预设最小移动步长,形成第i探测版图,i是小于或等于n的自然数,并且,当i=1时,第i-1探测版图为所述初始版图,若干第i-1探测待修正边为若干初始待修正边;对所述第i探测版图进行第i次缺陷检测步骤,获取第i探测曝光版图,并且,在第i探测版图中获取若干第i探测待修正边; 在所述n次探测光学邻近迭代修正后,根据所述初始版图、初始曝光版图、第1探测版图至第n探测版图、以及第1探测曝光版图至第n探测曝光版图,获取与若干第n探测待修正边一一对应的若干最佳移动步长,所述最佳移动步长大于或等于所述预设最小移动步长;其中,获取最佳移动步长的方法包括:根据初始版图和初始曝光版图,获取与若干第n探测待修正边对应的每个初始待修正边的边缘放置误差EPE0;根据第1探测版图至第n探测版图、以及第1探测曝光版图至第n探测曝光版图,获取与每个第n探测待修正边对应的边缘放置误差EPE1至边缘放置误差EPEn;根据与每个第n探测待修正边对应的边缘放置误差EPE0至边缘放置误差EPEn,获取每个第n探测待修正边对应的最佳移动步长; 根据与若干第n探测待修正边一一对应的若干最佳移动步长,对所述第n探测版图进行m次第一光学邻近迭代修正,获取第一修正版图,所述m是自然数。
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