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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利光学邻近修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116263560B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111538753.4，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法是由倪昶;王晓艳设计研发完成，并于2021-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学邻近修正方法在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法，包括：提供目标图形，所述目标图形的边上具有第一对比段；获取第一修正图形，所述第一修正图形的边上具有第一修正段；对所述第一修正图形进行曝光处理，获取第一空间像图形，所述第一空间像图形的边上具有与所述第一对比段相对应的第二对比段；获取所述第一对比段和所述第二对比段上，相邻两个采样点的边缘放置误差之间的第一偏差值；根据所述第一偏差值对第一修正图形的第一修正段进行补偿，获取第二修正图形。通过所述第一偏差值获取在所述光学邻近修正过程中，对所述第一修正段中修正较为薄弱的片段，进而对所述第一修正段进行补偿，以改善后续获取的刻蚀图形的轮廓效果。

本发明授权光学邻近修正方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供目标图形，所述目标图形的边上具有第一对比段； 获取第一修正图形，所述第一修正图形的边上具有与所述第一对比段相对应的第一修正段； 对所述第一修正图形进行曝光处理，获取第一空间像图形，所述第一空间像图形的边上具有与所述第一对比段相对应的第二对比段； 获取所述第一对比段和所述第二对比段上，相邻两个采样点的边缘放置误差之间的第一偏差值； 根据所述第一偏差值对第一修正图形的第一修正段进行补偿，获取第二修正图形；其中， 获取的第二修正图形过程包括获取第一补偿尺寸，获取所述第一补偿尺寸的过程包括获取补偿系数； 获取所述补偿系数包括：提供所述目标图形的曝光显影目标图形，所述曝光显影目标图形具有第一长轴和第一短轴；提供所述目标图形的刻蚀显影目标图形，所述刻蚀显影目标图形具有第二长轴和第二短轴；将所述第一长轴减去所述第二长轴，获取长轴第一偏差值；将所述第一短轴减去所述第二短轴，获取短轴第一偏差值；将所述长轴第一偏差值除以所述短轴第一偏差值作为所述补偿系数。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区张江路18号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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