株式会社日立高新技术星辽佑获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利输送装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116324421B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180069507.0，技术领域涉及：B65G54/02；该发明授权输送装置是由星辽佑;青山康明;高桥晓史;金子悟;玉腰武司;小林启之;渡边洋;鬼泽邦昭设计研发完成，并于2021-08-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本输送装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种既能防止磁饱和，又能降低输送装置的重量的输送装置。本发明的输送装置的特征在于，具备：输送路65，其供输送物移动；电磁铁，其设置于输送路65的与输送物移动的面相反的一侧的面；以及驱动电路，其使电流流过电磁铁，电磁铁具有由磁性体构成的齿22a、22b和卷绕于齿22a、22b的表面的绕组21a、21b，设置有支撑齿22a、22b的磁轭26，磁轭26的最小截面积Sy与齿22a、22b的设置有绕组21a、21b的部分的最小截面积St的关系为Sy＜St。
本发明授权输送装置在权利要求书中公布了：1.一种输送装置，其特征在于，具备： 输送路，其由非磁性材料制成，且内置有永久磁铁或者软磁性体的输送物在该输送路上滑动移动； 电磁铁，其设置于所述输送路的与所述输送物移动的面相反的一侧的面；以及 驱动电路，其使电流流过所述电磁铁， 所述电磁铁具有由磁性体构成的多个齿和卷绕于所述齿的表面的绕组， 设置有支撑所述齿的磁轭，在所述多个齿中，与相邻的一对齿间流动的磁通量相比，在位于所述一对齿的正下方的所述磁轭中流动的磁通量更小， 所述磁轭的最小截面积Sy与所述齿的设置有所述绕组的部分的最小截面积St的关系为Sy＜St。
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