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上海大学肖诗逸获国家专利权

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龙图腾网获悉上海大学申请的专利一种微带反射阵天线及其设计方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116470289B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310447067.9,技术领域涉及:H01Q9/04;该发明授权一种微带反射阵天线及其设计方法是由肖诗逸;王倩倩;周桃磊设计研发完成,并于2023-04-24向国家知识产权局提交的专利申请。

一种微带反射阵天线及其设计方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种微带反射阵天线及其设计方法,包括馈源和经支架与馈源相对设置的平面反射阵天线,平面反射天线为用于实现15%的驻波带宽、满足双极化的工作特性、且能在45°斜角度下稳定工作以及不小于30%的口径效率的单层贴片通过缝隙耦合到背面微带线进行移相的单元结构。本发明采用上述微带反射阵天线及其设计方法,通过基于仿真分析的基础上的设计,得到的样品具有优异的口径效率。

本发明授权一种微带反射阵天线及其设计方法在权利要求书中公布了:1.一种微带反射阵天线,包括馈源和经支架与馈源相对设置的平面反射阵天线,其特征在于:平面反射天线为用于实现15%的驻波带宽、满足双极化的工作特性、且能在45°斜角度下稳定工作以及不小于30%的口径效率的单层贴片通过缝隙耦合到背面微带线进行移相的单元结构; 单元结构包括由上到下依次经PP层粘合的第一介质层、第一辐射贴片层、第二介质层、第一缝隙耦合层、第三介质层、带状线馈线层、第四介质层、地板层、第五介质层和微带移相层; 第一介质层,用于使得馈源在斜角度入射下能更好的与单元结构匹配,拓展带宽,并且保护第一辐射贴片层; 第一辐射贴片层,用于接收馈源发出的电磁波和经过移相后再往外辐射电磁波; 第二介质层,用于拓展缝隙耦合的带宽; 第三介质层,用于双线极化与带状线进行耦合; 第四介质层,用于隔离带状线馈线层和地板层; 第五介质层,用于通过加载不同长度的微带线来达到移相的作用; 第一辐射贴片层上贴附有单层方形贴片; 第一缝隙耦合层上开设有正交布置的两个第一工字型缝隙,用于双线极化与带状线馈线层进行耦合; 带状线馈线层上设置有正交布置的两个带状线; 微带移相层上设置有正交布置的两个微带延迟线; 第一缝隙耦合层、第三介质层、带状线馈线层、第四介质层、地板层、第五介质层和微带移相层上均对应设置有第一金属化通孔,用于减小阵元之间的耦合; 带状线馈线层上围绕第一金属化通孔的位置以及微带移相层上围绕第一金属化通孔的位置均开设有多个呈矩阵布置的第二金属化通孔,用于导通以及抑制腔模的产生; 由第四介质层、地板层、第五介质层组成的转接结构用于隔开带状线馈线层和微带移相层; 转接结构在9~18GHz范围内,其传输系数的模值不小于,同时转接结构的反射系数模值均小于;在工作频段的12.5~14.5GHz的频率范围内,传输系数的模值大于,反射系数的模值均小于。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人上海大学,其通讯地址为:200444 上海市宝山区上大路99号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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