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龙图腾网获悉天津大学申请的专利用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116655870B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-11-18发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310546516.5，技术领域涉及：C08G12/40；该发明授权用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法是由王志;王卫凡;原野;生梦龙设计研发完成，并于2023-05-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法；将聚乙烯基胺水溶液倒入丙酮至没有新的白色沉淀产生，得到聚乙烯基胺沉淀，干燥后得到白色聚乙烯基胺固体；将固体溶解在乙醇中得到聚乙烯基胺的乙醇溶液；将聚乙烯基胺的乙醇溶液和希夫碱框架混合，加入沸石分子筛，在70‑80℃下搅拌反应2‑8h，离心后得到沉淀，使用去离子水和无水乙醇洗涤沉淀并将沉淀放于真空干燥箱加热干燥至脱去溶剂，得到聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料。对比纯PVAm膜，CO2渗透率提升了292％‑425％，CO2N2分离因子提升了233％‑294％。聚乙烯基胺改性的希夫碱框架材料具有较强的应用前景。

本发明授权用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法在权利要求书中公布了：1.用于制备高性能二氧化碳分离混合基质膜的聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料的制备方法，其特征是包括如下步骤： 1将聚乙烯基胺水溶液倒入丙酮至没有新的白色沉淀产生，得到聚乙烯基胺沉淀，将聚乙烯基胺沉淀干燥后得到白色聚乙烯基胺固体；聚乙烯基胺水溶液的制备方法为：将聚N-乙烯基甲酰胺配置成溶液，然后向溶液中加入盐酸至反应溶液中的盐酸浓度为8~12wt%；搅拌并在N2保护下65~75℃恒温水解，得到聚乙烯基胺盐酸盐PVAm·HCl；将PVAm·HCl溶液加入到过量的乙醇中析出，得到白色PVAm·HCl固体；将所得到的PVAm·HCl固体在去离子水中溶解；向溶液中加入过量的阴离子交换树脂并搅拌至溶液pH为12.0~13.0，抽滤后得到水解度为40~70%的PVAm水溶液； 2将白色聚乙烯基胺固体溶解在乙醇中得到聚乙烯基胺的乙醇溶液； 3将聚乙烯基胺的乙醇溶液和希夫碱框架材料混合，在混合液中加入沸石分子筛，在70-80℃下搅拌反应2-8h，离心后得到聚乙烯基胺改性希夫碱框架沉淀，使用去离子水和无水乙醇洗涤沉淀并将沉淀放于真空干燥箱加热干燥至脱去溶剂，得到聚乙烯基胺改性希夫碱框架材料；希夫碱框架材料的制备方法为：三聚氰胺与对苯二甲醛在二甲基亚砜中于惰性气氛下180℃加热进行缩合反应72h；最后并依次用丙酮、四氢呋喃和二氯甲烷洗涤，得到灰白色粉末状希夫碱框架材料。

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